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回望2003年全球半导体产业

发布时间:2007/8/30 0:00:00 访问次数:578

据SIA(美国半导体产业协会)统计,2003年全球半导体业的销售额为1630亿美元,比2002年增长了15.8%,而2002年的增长率仅为1%。

尽管如此,2003年半导体业的复苏之路并不平坦,起起伏伏,充满了曲折的故事。本期,我们请业内专家就这一年全球半导体业整体态态势进行回望,并借此机会描述这一轨迹的未来延伸态势——

半导体业终于回升

人们已经对半导体工业周期性的起起伏伏习以为常。2000年的高峰创造了历史的奇迹,而紧随其后的是2001年半导体工业34%的跌幅。2002年,半导体业似乎出现了转机,止跌回升。许多咨询公司断言,半导体业已经触底,2003年即将复苏。然而,SARS及美伊战争的突然降临,让众多咨询公司再次调低了对2003年的预测,一致认为2003年是个“不确定年”。但进入2003年第三季度,半导体工业似乎打了一针强心剂,许多芯片生产线的产能利用率开始节节攀升。半导体巨头,如Intel、Samsung及Toshiba等又开始投资扩大产能。半导体业终于等到了复苏转折点。

从目前的数据看,2003年全球半导体业增长达10%以上已成定局,但大家对增长态势的描述差别较大。有人说这一年是“缓慢回升”,也有人说是“迅速崛起”。有人甚至认为,目前的态势似乎与2000年的高峰期“十分相似”。但正像一群人赛跑,总是有快有慢,无论如何,全球半导体业已经回到了正常的轨道上。

虽然权威机构SIA(美国半导体工业协会)预测,从2003年至2006年,半导体业的年平均复合增长率将达9.8%,但人们越来越理性了。有些公司认为,2004年第一季度芯片生产线的产能利用率将达到90%,按以往的经验,芯片制造商应该开始投资,扩大产能,然而,现在有不少厂商仍看紧银包,不肯下注。这一切说明,大家还对此次循环吃不准。

浸入式光刻技术成为新宠

光刻技术是半导体工业的“领头羊”。据Dataquest统计,在2002年全球半导体设备市场高达190亿美元规模时,光刻设备占了其中50亿美元的份额。众所周知,全球光刻机制造领域非常垄断,最著名的供应商仅有三家,分别是欧洲的ASML,日本的Nikon和Canon。

根据光学的基本概念,提高光刻机分辨无非是缩短波长、增大镜头的数值孔径以及减小系统参数K,缩短波长为最直接和有效的方法。而光刻设备制造商目前执行的技术路线非常清晰,主要是缩短波长,从248纳米到193纳米再到157纳米,再往下走就只能是远紫外光光刻(EUV)或者采用其它新的技术,如电子束投影光刻、离子束投影光刻及X射线光刻等。

但2003年5月,Intel宣布放弃157纳米光刻机的开发,而将现有采用氟化氩激光器的193纳米光刻机的功能扩展至45纳米节点,这在全球半导体业引起强烈反响。Intel这样做的一个重要原因是,除了分辨率增强技术(RET)之外,浸入式技术已有较好的发展,而数值孔径为0.93的193纳米的镜头已经可以实现。当然,更主要的因素还是成本问题。

所谓浸入式光刻是指在投影镜头与硅片之间用一种液体充满,以获得更好的分辨率及增大镜头的数值孔径。今天,193纳米光刻机的数值孔径为0.85左右,而采用浸入式技术后,可提高至1.0及以上。

Intel决定放弃157纳米光刻机技术也影响着光刻机厂商。例如,ASML已成功地改造了现有的TwinscanXT1250机器,附带有浸入式技术,并决定于2004年三季度提供给客户TSMC使用。日本光刻机制造商也不甘示弱,他们承诺将于2004年下半年提供具有浸入式技术的Alpha机,让客户进行性能评价。

科技的进展往往难以预料,谁也没有想到,从发现至今,仅仅一年左右的时间,浸入式光刻技术就成为新宠。

半导体固定资产投资谨慎

2003年全球半导体固定资产投资历程表现得较为曲折,总的态势是与全球半导体工业触底反弹有所不同,表现得既谨慎又保守。

进入2003年下半年,随着美国经济的全面复苏,半导体工业也呈现反弹态势,主要表现为芯片生产线的产能利用率达到90%,IC库存下降,甚至有些品种缺货。按照以往规律,芯片制造商一般要扩大产能,迎接即将来临的高潮,否则将错过商机,后患无穷。可是2003年有点例外,除了Intel和Samsung要争得霸权而开展投资竞赛,一些日本公司如Sony及Toshiba调整策略后再次下注外,UMC、AMD、TI、Infineon、TSMC及Tower等6家公司却一反常态,连2003年上半年已经列入计划的投资都没有花完。

为什么许多公司不按规则出牌,宁肯冒着丢失市场的危险,而不愿继续投资呢?这是因为投资有可能导致利润下降及股市下跌,风险太大;更主要的是半导体厂商不清楚此次半导体业的周期循环能维持多久。

设备材料业苦涩之年

已过去的2003年对于半导体设备和材料业来讲,仍是苦涩之年。

根据VLSI公司的记录,2000年设备业增长了58%,达到历史的顶峰;2001年下降了30%,2002年再次下降24%,到2003年设备业开始止跌,但回升甚小。

2003年,全球最大的设备制造商——应用材料公司裁员达3750人,超过

据SIA(美国半导体产业协会)统计,2003年全球半导体业的销售额为1630亿美元,比2002年增长了15.8%,而2002年的增长率仅为1%。

尽管如此,2003年半导体业的复苏之路并不平坦,起起伏伏,充满了曲折的故事。本期,我们请业内专家就这一年全球半导体业整体态态势进行回望,并借此机会描述这一轨迹的未来延伸态势——

半导体业终于回升

人们已经对半导体工业周期性的起起伏伏习以为常。2000年的高峰创造了历史的奇迹,而紧随其后的是2001年半导体工业34%的跌幅。2002年,半导体业似乎出现了转机,止跌回升。许多咨询公司断言,半导体业已经触底,2003年即将复苏。然而,SARS及美伊战争的突然降临,让众多咨询公司再次调低了对2003年的预测,一致认为2003年是个“不确定年”。但进入2003年第三季度,半导体工业似乎打了一针强心剂,许多芯片生产线的产能利用率开始节节攀升。半导体巨头,如Intel、Samsung及Toshiba等又开始投资扩大产能。半导体业终于等到了复苏转折点。

从目前的数据看,2003年全球半导体业增长达10%以上已成定局,但大家对增长态势的描述差别较大。有人说这一年是“缓慢回升”,也有人说是“迅速崛起”。有人甚至认为,目前的态势似乎与2000年的高峰期“十分相似”。但正像一群人赛跑,总是有快有慢,无论如何,全球半导体业已经回到了正常的轨道上。

虽然权威机构SIA(美国半导体工业协会)预测,从2003年至2006年,半导体业的年平均复合增长率将达9.8%,但人们越来越理性了。有些公司认为,2004年第一季度芯片生产线的产能利用率将达到90%,按以往的经验,芯片制造商应该开始投资,扩大产能,然而,现在有不少厂商仍看紧银包,不肯下注。这一切说明,大家还对此次循环吃不准。

浸入式光刻技术成为新宠

光刻技术是半导体工业的“领头羊”。据Dataquest统计,在2002年全球半导体设备市场高达190亿美元规模时,光刻设备占了其中50亿美元的份额。众所周知,全球光刻机制造领域非常垄断,最著名的供应商仅有三家,分别是欧洲的ASML,日本的Nikon和Canon。

根据光学的基本概念,提高光刻机分辨无非是缩短波长、增大镜头的数值孔径以及减小系统参数K,缩短波长为最直接和有效的方法。而光刻设备制造商目前执行的技术路线非常清晰,主要是缩短波长,从248纳米到193纳米再到157纳米,再往下走就只能是远紫外光光刻(EUV)或者采用其它新的技术,如电子束投影光刻、离子束投影光刻及X射线光刻等。

但2003年5月,Intel宣布放弃157纳米光刻机的开发,而将现有采用氟化氩激光器的193纳米光刻机的功能扩展至45纳米节点,这在全球半导体业引起强烈反响。Intel这样做的一个重要原因是,除了分辨率增强技术(RET)之外,浸入式技术已有较好的发展,而数值孔径为0.93的193纳米的镜头已经可以实现。当然,更主要的因素还是成本问题。

所谓浸入式光刻是指在投影镜头与硅片之间用一种液体充满,以获得更好的分辨率及增大镜头的数值孔径。今天,193纳米光刻机的数值孔径为0.85左右,而采用浸入式技术后,可提高至1.0及以上。

Intel决定放弃157纳米光刻机技术也影响着光刻机厂商。例如,ASML已成功地改造了现有的TwinscanXT1250机器,附带有浸入式技术,并决定于2004年三季度提供给客户TSMC使用。日本光刻机制造商也不甘示弱,他们承诺将于2004年下半年提供具有浸入式技术的Alpha机,让客户进行性能评价。

科技的进展往往难以预料,谁也没有想到,从发现至今,仅仅一年左右的时间,浸入式光刻技术就成为新宠。

半导体固定资产投资谨慎

2003年全球半导体固定资产投资历程表现得较为曲折,总的态势是与全球半导体工业触底反弹有所不同,表现得既谨慎又保守。

进入2003年下半年,随着美国经济的全面复苏,半导体工业也呈现反弹态势,主要表现为芯片生产线的产能利用率达到90%,IC库存下降,甚至有些品种缺货。按照以往规律,芯片制造商一般要扩大产能,迎接即将来临的高潮,否则将错过商机,后患无穷。可是2003年有点例外,除了Intel和Samsung要争得霸权而开展投资竞赛,一些日本公司如Sony及Toshiba调整策略后再次下注外,UMC、AMD、TI、Infineon、TSMC及Tower等6家公司却一反常态,连2003年上半年已经列入计划的投资都没有花完。

为什么许多公司不按规则出牌,宁肯冒着丢失市场的危险,而不愿继续投资呢?这是因为投资有可能导致利润下降及股市下跌,风险太大;更主要的是半导体厂商不清楚此次半导体业的周期循环能维持多久。

设备材料业苦涩之年

已过去的2003年对于半导体设备和材料业来讲,仍是苦涩之年。

根据VLSI公司的记录,2000年设备业增长了58%,达到历史的顶峰;2001年下降了30%,2002年再次下降24%,到2003年设备业开始止跌,但回升甚小。

2003年,全球最大的设备制造商——应用材料公司裁员达3750人,超过

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