透射衰减的相移掩膜版的相移层一般由硅化钼(MoSi)制成。一般来讲,对于6%左右的透射率有着6%±0.5%左右的控制精度要求。对相移精度有着180°±5°的要求。 JA3515-OS-A04随着工艺技术节点的稳步提高,对于掩膜版的精度会越来越高。下面我们来讨论以下透射衰减相移掩膜版能够为密集线条带来多少好处:

   显示了一组密集线条在投射衰减掩膜版上的情况。掩膜版上线宽为〃,空两束光成像相比三束光成像具有更大的焦深,对于孤立的图形,由于进人光瞳的衍射级非常多,换句话说,其衍射谱是连续的,其焦深比密集图形要小。那么,如何提高孤立图形的焦深呢?在20世纪90年代末,Fung Chcn等人提出F使用亚衍射散射条(sub_resolutionassist features,SRAF)的方法来提高孤立图形的焦深ηΙ2,图7.96描述了常见的亚衍射散射条的效果。其原理是在孤立线条在光瞳L的连续衍射角分布L1加上密集图形的衍射级,将两束光成像焦深较大的效应对原先孤立线条的△艺窗口进行夹持,改善孤立线条的对焦深度。其实,我们可以将此情况看成是两个图形的效果的叠加。所以,加上亚衍射散射条后,焦深得到显著提高。不过,由于衍射光更加集中到密集的0级、1级或者-1级,原先孤立线条的密集衍射级数被淡化,空间像对比度会有所减小(也就是射级数由于受到密集散射条对0、±1级的倾斜,其他级数受到削弱,等效的衍射变小了),也就是能量宽裕度会有所减小。

   显示了加上亚衍射散射条后,对焦深度显著提高了(大约从60nm到100nm),但是曝光能量宽裕度也减小了(2OOnm空问周期以上大约从20%下降到16%)。而且孤立线条的掩膜版误差囚子也大约从1.0升到1,5。所以,亚衍射散射条的应用能够大幅提高对焦深度,但是也要放弃一点对比度或者能量宽裕度。综上所述,发挥亚衍射散射条的作用,也需要配合离轴照明(如环形照明)一起使用。