明导公司(Mentor Graphics)和中芯国际集成电路制造有限公司最近宣布采用一种技术设计工具(TDK)，可用于中芯国际0.18微米混合信号工艺。这种源码开放式设计工具，为Mentor Graphics模拟/混合信号(AMS)设计流程使用所建造，使IC设计公司能够使用中芯0.18微米加工技术建立全面性的设计环境——包括原理图输入、仿真、版图设计、验证和寄生参数提取。

新设计工具包括中芯国际支持的Eldo模拟仿真模型和Calibre DRC，LVS以及寄生参数提取的技术文件，还包括Design Architect-IC tool使用的原理图符号， 与在IC Station中原理图驱动版图使用的可编程器件生成工具，工艺流程定义文件，及其它有效使用工具所需的配置文件。

“建立一种混合信号设计环境通常需要大量的时间和劳力”，明导公司副总裁兼DSM部总经理陈志贤说， “明导向用户提供TDK，帮助他们简化并且加速这个过程， 因此我们很高兴与中芯合作，支持他们的主流0.18微米加工技术”。

受益于这设计工具的中芯国际客户包括系统级芯片提供商美国像素科技公司(Pixelworks)。“这套技术设计工具帮助我们更好的节约时间， 使我们迅速实现产品面市的目标”，Pixelworks的副总裁及院士麦克·韦斯特说，“TDK可以帮助我们更快的启动一种新设计。另外，TDK的符合代工规格的参数设备， 跟逻辑驱动版图实现(IC Station’s LDL)功能， 使早期的工艺技术过渡到中芯最新的0.18微米工艺变得更加容易和顺利。”

(转自 电子工程专辑)