当更多的信息要制作在先进的电路上时，所有上述技术问题变得十分复杂。 PA28F400B5T60随着特征尺寸的缩小，芯片尺寸的增加，器件的堆叠和更好的设计，更多的信息（每平方厘米）要放在掩模版上101。这一趋势也迫使光刻机，特别是步进式光刻机进一步发展，它包括透镜系统、曝光源、光刻胶和其他一些图形增强技术，比如光源的改进、相移掩模版等（见下文）。这些技术的运用有效地降低了上述分辨率极限公式中的后值。

   可变数值子L径透镜

   NA是衡量透镜集光能力的一个参数。它的对立参数是景深(DoF)。一组透镜如果想有好的NA（更高的NA），那么它就要牺牲景深（见第8章）。遗憾的是，高级的电路往往由许多层组成，高低不平的表面（表面形貌）要求大的景深。只拥有一个透镜的步进式光刻机在其相应的景深内的晶圆上曝光是受限制的，它可能包括或不包括在晶圆表面的找平。比较新的步进式光刻机一般都具育可变数值孔径透镜，这样可以适应对景深的多样化需求‘11。