步进扫描投影光刻机
发布时间:2017/5/27 20:52:34 访问次数:732
步进扫描投影光刻机的另一个重要优点是具有在整个扫描过程调节聚焦的能力,使透镜M74LCX16374DTR2G缺陷和硅片平整度变化能够得到补偿。这种改进扫描过程中的聚焦控制使整个曝光场内的CD均匀性控制得到改善。
步进扫描投影光刻机最主要的挑战是增加了机械容许偏差控制的要求,因为要对硅片和投影掩模板载台的运动进行同步控制。步进光刻机只需要把硅片快速移动到一个新位置,而步进扫描光刻机却必须把硅片和投影掩模板同时沿相反方向精确地移动。这些扫描和步进执行过程中,定位容差不超过几十纳米。
步进扫描投影光刻机的另一个重要优点是具有在整个扫描过程调节聚焦的能力,使透镜M74LCX16374DTR2G缺陷和硅片平整度变化能够得到补偿。这种改进扫描过程中的聚焦控制使整个曝光场内的CD均匀性控制得到改善。
步进扫描投影光刻机最主要的挑战是增加了机械容许偏差控制的要求,因为要对硅片和投影掩模板载台的运动进行同步控制。步进光刻机只需要把硅片快速移动到一个新位置,而步进扫描光刻机却必须把硅片和投影掩模板同时沿相反方向精确地移动。这些扫描和步进执行过程中,定位容差不超过几十纳米。
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