纳米压印技术和自装纳米层技术工艺都较为复杂,不利于大规模的I业化生产。激光G2PM109N-ALF全息技术是利用全息光栅取代光刻技术中的掩膜,根据三个全息光栅的一级衍射光相互干涉,在光刻胶上表面形成相应的周期性图形形成二维光子晶体,其光学系统示意图如图5-40所示。具体工艺为:首先在蓝宝石衬底表面用甩胶机涂覆一层光刻胶,采用图5-40所示的全息光学系统在光刻胶上曝光,制作光子晶体图形。全息光学元件由三个两两夹角为1⒛°具有相同周期的光栅组成,其衍射光相互干涉形成二维六角图形。通过控制全息光栅上的周期可以获得所需晶格常数的二维六角晶格图形。利用激光全息技术可以非常方便地在蓝宝石衬底表面制备不同周期的二维图形,且全息光栅的面积决定了一次曝光所制作的二维结构图形的面积,十分有利于实现工业化的低成本、大批量制作。