半导体工艺需要大量化学液体来刻蚀
发布时间:2015/10/23 20:30:44 访问次数:748
半导体工艺需要大量化学液体来刻蚀、UCC35701PW清洗、冲洗晶圆和其他部件。化学家们把这些化学品分为二!大类:
酸
碱
溶剂
酸和碱的不同之处在于液体中离子的不同。酸中含右氢离子( hydrogen ion),而碱中含有氢氧离子( hydroxide ion)。对水分子的研究解释了不同之处。
水的化学式一般写成H20,它也可写成HOH。将其分解,我们发现水是由带正电的氢离子(H+)和带负电的氢氧离子(OH -)组成的。
当水与其他元素混合,要么是氢离子,要么是氢氧离子与其他物质结合(见图2. 19)。含有氢离子的液体叫做酸( acid),含有氢氧离子的液体叫做碱(bases)。通常在家中就可找到酸和碱:柠檬汁和醋是酸,氨水和溶于水的苏打是碱。
酸进一步可分为两类:有机酸和无机酸。有机酸含有碳氢化合物而无机酸没有。磺酸是有机酸,氢氟酸是无机酸。
酸和碱的强度和反应用pH值来衡量(见图2.20),该值从0~14,7为中性点。水既不是酸又不是碱,所以其pH值为7。强酸如硫酸(H:SO。)的pH值较低,为0~3,强碱如氢氧化钠( iNaOH)的pH值比7要高。
半导体工艺需要大量化学液体来刻蚀、UCC35701PW清洗、冲洗晶圆和其他部件。化学家们把这些化学品分为二!大类:
酸
碱
溶剂
酸和碱的不同之处在于液体中离子的不同。酸中含右氢离子( hydrogen ion),而碱中含有氢氧离子( hydroxide ion)。对水分子的研究解释了不同之处。
水的化学式一般写成H20,它也可写成HOH。将其分解,我们发现水是由带正电的氢离子(H+)和带负电的氢氧离子(OH -)组成的。
当水与其他元素混合,要么是氢离子,要么是氢氧离子与其他物质结合(见图2. 19)。含有氢离子的液体叫做酸( acid),含有氢氧离子的液体叫做碱(bases)。通常在家中就可找到酸和碱:柠檬汁和醋是酸,氨水和溶于水的苏打是碱。
酸进一步可分为两类:有机酸和无机酸。有机酸含有碳氢化合物而无机酸没有。磺酸是有机酸,氢氟酸是无机酸。
酸和碱的强度和反应用pH值来衡量(见图2.20),该值从0~14,7为中性点。水既不是酸又不是碱,所以其pH值为7。强酸如硫酸(H:SO。)的pH值较低,为0~3,强碱如氢氧化钠( iNaOH)的pH值比7要高。
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