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由于近十年单晶硅工艺的砑究与发展很快

发布时间:2015/8/6 19:57:44 访问次数:463

   由于近十年单晶硅工艺的砑究与发展很快,其工艺也应用于多晶硅太阳能电池的生产,MTV412V比如选择腐蚀发射结、背表面场、腐蚀绒面、表面和体钝化、细金属栅电极等工艺,。采用丝网印制技术可使栅电极的宽度降低到50Um,高度达到151im以上,快速热退火技术用于多晶硅的生产可大大缩短工艺时间,单片热工序时间可在一分钟之内完成,采用该工艺在lOOcrr12的多晶硅片上做出的太阳能电池转换效率超过14%。据报道,目前在50~60Um多晶硅衬底上制作的太阳能电池效率超过16%。利用机械刻槽、丝网印制技术的lOOcrri2多晶硅片的太阳能电池转换效率超过17%,无机械刻槽在同样面积上效率达到16%,采用埋栅结构,机械刻槽的l30cm2多晶硅片的太阳能电池转换效率达到15.8%。

   非晶硅太阳能电池

   开发太阳能电池的两个关键问题是:提高转换效率和降低成本。由于非晶硅薄膜太阳能池具有低的成本,便于大规模生产,普遍受到人们的重视并得到迅速发展。早在20世纪70年代初,Carlson等就已经开始了对非晶硅太阳能电池的研制工作,近几年它的研制工作得到了迅速发展,目前世界上已有许多家公司在生产该类太阳能电池产品。非晶硅作为太阳能材料尽管是一种很好的电池材料,但由于其光学带隙为1.7eV,使得材料本身对太阳辐射光谱的长波区域不敏感,这样一来就限制了非晶硅太阳能电池的转换效率。此外,其光电效率会随着光照时间的延续而衰减,即所谓的光致衰退效应,使得太阳能电池的性能不稳定。解决这些问题的途径就是制备叠层太阳能电池,叠层太阳能电池是在制备的PiN层单结太阳能电池上再沉积一个或多个PiN层电池制得的


   由于近十年单晶硅工艺的砑究与发展很快,其工艺也应用于多晶硅太阳能电池的生产,MTV412V比如选择腐蚀发射结、背表面场、腐蚀绒面、表面和体钝化、细金属栅电极等工艺,。采用丝网印制技术可使栅电极的宽度降低到50Um,高度达到151im以上,快速热退火技术用于多晶硅的生产可大大缩短工艺时间,单片热工序时间可在一分钟之内完成,采用该工艺在lOOcrr12的多晶硅片上做出的太阳能电池转换效率超过14%。据报道,目前在50~60Um多晶硅衬底上制作的太阳能电池效率超过16%。利用机械刻槽、丝网印制技术的lOOcrri2多晶硅片的太阳能电池转换效率超过17%,无机械刻槽在同样面积上效率达到16%,采用埋栅结构,机械刻槽的l30cm2多晶硅片的太阳能电池转换效率达到15.8%。

   非晶硅太阳能电池

   开发太阳能电池的两个关键问题是:提高转换效率和降低成本。由于非晶硅薄膜太阳能池具有低的成本,便于大规模生产,普遍受到人们的重视并得到迅速发展。早在20世纪70年代初,Carlson等就已经开始了对非晶硅太阳能电池的研制工作,近几年它的研制工作得到了迅速发展,目前世界上已有许多家公司在生产该类太阳能电池产品。非晶硅作为太阳能材料尽管是一种很好的电池材料,但由于其光学带隙为1.7eV,使得材料本身对太阳辐射光谱的长波区域不敏感,这样一来就限制了非晶硅太阳能电池的转换效率。此外,其光电效率会随着光照时间的延续而衰减,即所谓的光致衰退效应,使得太阳能电池的性能不稳定。解决这些问题的途径就是制备叠层太阳能电池,叠层太阳能电池是在制备的PiN层单结太阳能电池上再沉积一个或多个PiN层电池制得的


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