改善器件可靠性的措施包括以下几方面
发布时间:2015/6/24 19:30:19 访问次数:578
防止二次击穿,改善器LC78820M件可靠性的措施包括以下几方面。
·设计方面
在发射极和集电极条上串接镇流电阻,提高功率管二次击穿耐量。对微波功率管也可利用键合引线的电感和氧化物电容组成的网络,选择适当的匹配参数实现功率的自动调整。
·工艺方面
发生二次击穿的部位常是存在工艺缺陷的地方,如管芯与底座间烧结层的空洞,发射极键合点压偏使镇流电阻短路,硅铝合金常使基区厚度不均匀等。这些缺陷使电流集中,热阻增大,局部发热过甚,导致PN结烧毁,所以要有针对性地加强工艺控制,确保工艺质量。
·使用方面
使用时根据手册使其工作在安全工作区内,在此区域内不会引起二次击穿或特性的缓慢退化。
二次击穿是器件内部的现象,其击穿机理及有关安全工作区等情况可参见有关教科书。
闩锁效应是指CMOS电路中寄生的固有可控硅结构被外界因素触发寻通,在电源和地之间形成低阻通路现象,一旦电流流通,电源电压不降至临界值以下,导通就无法终止,引起器件的烧毁,构成CMOS电路一个主要的可靠性问题。随着集成度的提高,尺缩 小,掺杂浓度提高,寄生管的hFE变大,更易引起闩锁效应。
防止二次击穿,改善器LC78820M件可靠性的措施包括以下几方面。
·设计方面
在发射极和集电极条上串接镇流电阻,提高功率管二次击穿耐量。对微波功率管也可利用键合引线的电感和氧化物电容组成的网络,选择适当的匹配参数实现功率的自动调整。
·工艺方面
发生二次击穿的部位常是存在工艺缺陷的地方,如管芯与底座间烧结层的空洞,发射极键合点压偏使镇流电阻短路,硅铝合金常使基区厚度不均匀等。这些缺陷使电流集中,热阻增大,局部发热过甚,导致PN结烧毁,所以要有针对性地加强工艺控制,确保工艺质量。
·使用方面
使用时根据手册使其工作在安全工作区内,在此区域内不会引起二次击穿或特性的缓慢退化。
二次击穿是器件内部的现象,其击穿机理及有关安全工作区等情况可参见有关教科书。
闩锁效应是指CMOS电路中寄生的固有可控硅结构被外界因素触发寻通,在电源和地之间形成低阻通路现象,一旦电流流通,电源电压不降至临界值以下,导通就无法终止,引起器件的烧毁,构成CMOS电路一个主要的可靠性问题。随着集成度的提高,尺缩 小,掺杂浓度提高,寄生管的hFE变大,更易引起闩锁效应。
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