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MOcVD设备和技术表现出以下诸多优点

发布时间:2018/6/30 21:58:25 访问次数:1061

   MOCVD的外延生长过程虽然复杂,但仍然有规律可循,其关键是反应室内的温度和气流的混合、MOcVD设备和技术表现出以下诸多优点动态分布与控制。同时,通过不断摸索和优化好各个具体材料的组分、相变、 RA07M4452M生长取向等外延生长规律,建立了一些模型来帮助我们理解MOcVD技术特点,指导我们有效地优化LED的外延生长。在实际材料生长和LED产业生产中,MOcVD设备和技术表现出以下诸多优点:

   (l)灵活性。可选择多种Mo源作为源材料,因此可生长多种化合物半导体。

   (2)可控性。通过对生长参数(温度、流量、V/III比、压力等)的优化,能精确控制极薄层材料的厚度、组分和界面。

   (3)重复性。能重复生长大面积的均匀层,便于工业生产。

   (4)经济性。价格较低。

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   (l)灵活性。可选择多种Mo源作为源材料,因此可生长多种化合物半导体。

   (2)可控性。通过对生长参数(温度、流量、V/III比、压力等)的优化,能精确控制极薄层材料的厚度、组分和界面。

   (3)重复性。能重复生长大面积的均匀层,便于工业生产。

   (4)经济性。价格较低。

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