解决曝光区高阶套刻偏差需要调整镜头的像差和畸变。阿斯麦公司也推出“网格地图一曝光区内版”(ghd mapper il△tra field)。它通过调整镜头的畸变来去除二阶(D2)、三阶(D3)畸变。而且,当镜头受热(lens heating)时, R0502053S会伴随着二阶、三阶畸变。解决方法是对像差进行实时测量,然后使用镜头模型进行计算,得出最佳镜片空间位置组合。当今的光刻机镜头大约有>70%的镜片的空间位置,包括沿着对称轴z纵向的和沿着水平方向XY的,都是可以自动调节的;而纵向的镜片,由于关系到很多重要的像差,如球差(spherictfll aberration)、像场弯曲(Ⅱeld curvaturc),由计算机做闭环控制的。

    套刻一般通过光学位置对准和测量的方法来实现。对准分为通过透镜的对准(Through The Lens,TTL)和离轴对准(()ff Axis,OA)。由于通过镜头的对准需要在镜头的设计上不仅对曝光波长(actinic wavelength)优化,同时又要能够照顾到对准波长(alignmellt Wavclength),造成对分辨率的损害,所以现代的光刻机都使用离轴对准。离轴对准一般通过使用与镜头中央位置定标过的离轴空间像探测器。一般有明场(bright Ⅱeld)和暗场(dark field)探测两种类型;同时,又有直接成像型和扫描成像型。明场探测型的探测器是一架显微镜,通过对对准记号,如图7.狃(a)、图7.狃(b)所示,反射光的成像,并且照相,确定其在视场中的位置来确定对准记号所在位置与设计位置间存在的偏差。暗场探测可以通过探测除去零级反射的衍射光的成像,并且照相来确定其所在位置。由于暗场探测除去了大量回射光(back reⅡecoon),它对背景上的光学噪声表现得不敏感。如图7.45所示,明场探测有时会遇到由于背景光学噪声造成的对准记号对比度很低的情况,而这种对比度变差到一定程度会对对准的精度产生严重影响,如图7,46所示。l。而暗场探测要好很多。