图7,32 常用的光学邻近效应修正模型建立所用的定标图形以及线宽测量位置优化抗反射层的厚度。S9S08SG8E2MTJR由于光刻胶同衬底的折射率(″和花值)的差异,一部分照明光会从光刻胶和衬底的界面被反射回来,造成对入射成像光的干扰。这种干扰严重时甚至会产生驻波效应,如图7.33(c)所示。图7.33(c)中显示的是J线365n或者248nm光刻胶断面图,因为驻波中波峰到波峰之间的距离为半个波长,而光刻胶的折射率″一般为1.6~1.7左右,根据波峰的个数(~10),可以推断光刻胶的厚度大约为0.7~1.2um左右。

   而193nm的光刻胶厚度通常小于300nm。消除光刻胶底部的反射光一般采用底部抗反射层(Bottom Ant卜reflecti°n Coating,BARC),如图7.34(a)所示。在图7.34(a)中,加人底部抗反射层后增加了一个界面。可以通过调节抗反射层的厚度来调节抗反射层与衬底之间反射光的相位,以抵消光刻胶和抗反射层之间的反射光,起到消除光刻胶底部反射光的作用。对于抗反射层,如果要在1/4波长的厚度附近做到严格的抗反射,需要精确地调节抗反射层的折射率″,使得它介于衬底的″衬底和″光刻胶之间.