接近式曝光装置示意图如图1019所示。它由4部分组成:光源和透镜系统、掩模板、硅片(样品)及对准台。SDCL1005C1N0STDF汞灯发射的紫外光由透镜变成平行光,平行光通过掩模板后在光刻胶膜上形成图形的像。SDCL1005C1N0STDF掩模板与硅片之间有一小的间隙s,通常s=5um,所以称这种方法为接近式曝光。在分辨率的讨论中得知光学方法的理论分辨率。但在接近式的系统中由于掩模板和硅片间有一小间隙s,必须考虑这种具体情况下衍射对分辨率的限制。

   如图10-~90所示为接近式曝光衍射示意图。设有一光屏BB′,上面有宽度为Ω的狭缝,这相当于掩模板。狭缝的长度不限,其方向垂直于图面。当光线通过BPD′时,则在与其相距s的E卩面(即硅片及其胶膜)上成像。因衍射效应,光强分布如GG′所示。为了描述衍射现象,我们插人一个透镜L。如果没有衍射则光线通过I'会聚于一点;如有衍射,则呈GG′分布。这里我们计算一级衍射极小的像宽度。