腐蚀时如果腐蚀液渗入光刻胶膜的边缘,使图形HAT3004R边缘受到腐蚀,从而破坏掩蔽扩散的氧化层或铝条的完整性,若渗透腐蚀较轻,图形边缘出现针状的局部破坏,称为毛刺;若图形边缘腐蚀严重,出现锯齿状或花斑状的破坏,称为钻蚀。产生毛刺或钻蚀的原因有基片表面不清洁,存在油污、灰尘或水汽,使光刻胶和氧化层黏附不良,引起毛刺或局部钻蚀。氧化层表面存在磷硅玻璃,特别是磷的浓度较大时,表面与光刻胶黏附性不好,耐腐蚀性能差,容易造成钻蚀。

   光刻胶中存在颗粒状物质,造成局部黏附不良。对于光聚合型光刻胶,曝光不足,显影时产生钻溶,腐蚀时造成毛刺或钻蚀。显影时间过长,图形边缘发生钻溶,腐蚀时造成钻蚀。掩蔽图形的边缘有毛刺状缺陷,以及硅片表面有突起或固体颗粒,在对准定位时掩模版与硅片表面间有摩擦,使图形边缘有划线,腐蚀时产生毛刺。