有机溶剂清洗
发布时间:2014/5/21 21:01:33 访问次数:1057
有机溶剂清洗详见本章15.2节。 AD625BDZ这种方法适合于清洗对水敏感的和元器件密封性差的印制线路板,目前还处于替代技术过渡阶段。有两种溶剂清洗方法:一种是非ODS溶剂清洗;另一种是过渡阶段的HCFC清洗,HCFC清洗是一种使用有机溶剂与CFC混合液的清洗方法。
水洗技术
水清洗工艺是以水作为清洗介质,可在水中添加少量(一般为2%~10%)表面活性剂、缓蚀剂等化学物质,通过洗涤,经多次纯水或去离子水的漂洗和干燥完成清洗。
水清洗的优点是水清洗的清洗介质一般无毒、不危及工人健康,而且不可燃、不爆炸,因此安全性好;水清洗对微粒、松香类助焊剂、水溶性类污染物和极性污染物等有良好的清洗效果;水清洗与元器件的封装材料、PCB材料的相容性好,对橡塑件和涂层等不溶胀、不开裂,使元件表面的标记、符号能保持清晰完整,不会被清洗掉。因此水清洗是非ODS清洗的主要工艺之一。
水清洗的缺点是设备投资大,还需要投资纯水或去离子水的制水设备,另外不适用于非气蜜性器件,如可调电位器、电感器,开关等;水汽进入器件内部不容易排出,甚至会损坏元器件。
水洗技术可分为纯水洗和水中加表面活性剂两种工艺,典型的工艺流程如下:
水+表面活性剂一水一纯水一超纯水一热风
洗涤 洗涤 漂洗 漂洗 干燥
一般在洗涤阶段均附加超声波装置,在清洗阶段除加超声外还附加空气刀(喷嘴)装置。水温控制在60~70 0C,水质要求很高,电阻率要求在8~18MQ.cm。这种替代技术适用于生产批
量大、产品可靠性等级要求较高的企业。对于小批量清洗,可选用小型清洗设备。
有机溶剂清洗详见本章15.2节。 AD625BDZ这种方法适合于清洗对水敏感的和元器件密封性差的印制线路板,目前还处于替代技术过渡阶段。有两种溶剂清洗方法:一种是非ODS溶剂清洗;另一种是过渡阶段的HCFC清洗,HCFC清洗是一种使用有机溶剂与CFC混合液的清洗方法。
水洗技术
水清洗工艺是以水作为清洗介质,可在水中添加少量(一般为2%~10%)表面活性剂、缓蚀剂等化学物质,通过洗涤,经多次纯水或去离子水的漂洗和干燥完成清洗。
水清洗的优点是水清洗的清洗介质一般无毒、不危及工人健康,而且不可燃、不爆炸,因此安全性好;水清洗对微粒、松香类助焊剂、水溶性类污染物和极性污染物等有良好的清洗效果;水清洗与元器件的封装材料、PCB材料的相容性好,对橡塑件和涂层等不溶胀、不开裂,使元件表面的标记、符号能保持清晰完整,不会被清洗掉。因此水清洗是非ODS清洗的主要工艺之一。
水清洗的缺点是设备投资大,还需要投资纯水或去离子水的制水设备,另外不适用于非气蜜性器件,如可调电位器、电感器,开关等;水汽进入器件内部不容易排出,甚至会损坏元器件。
水洗技术可分为纯水洗和水中加表面活性剂两种工艺,典型的工艺流程如下:
水+表面活性剂一水一纯水一超纯水一热风
洗涤 洗涤 漂洗 漂洗 干燥
一般在洗涤阶段均附加超声波装置,在清洗阶段除加超声外还附加空气刀(喷嘴)装置。水温控制在60~70 0C,水质要求很高,电阻率要求在8~18MQ.cm。这种替代技术适用于生产批
量大、产品可靠性等级要求较高的企业。对于小批量清洗,可选用小型清洗设备。