处于击穿区域的PN结二极管
发布时间:2013/7/29 20:17:31 访问次数:1229
如果在PN结上施加足够大的反向偏置电压,器件将会被击穿,PC817C导通电流通常会反向[也就是iD转向相反方向,见图2.6(c)l。在这些情况下,反向偏置电压超过击穿电压V Br( breakdown voltage)就会导致一种或者两种击穿机理的组合,从而引起电流变化。例如,在高掺杂的PN结中,由于接触边缘很薄,在合金结附近的区域,载流子相对来说较难耗尽,耗尽层宽度较窄,导致PN结上的电场很犬,使得电子利用隧穿效应( tunnel)经过该区域,如图2.7所示。在轻掺杂PN结中,耗尽区宽度更长,因此阻止了隧穿效应的发生,但是反向偏置电压VR进一步增加,该点的电场进一步增加,从而自由电子能量升高,不断加速,由于带有足够的能量,原本价带中限制在一起的电子空穴对,通过称为碰撞电离(impact ionization)的过程将其分开。这样导致自由电荷载流子数量增加(图2.7),从而增加了电流。由于一个自由电子释放一个电子(还有一个空穴),这个过程将使得系统内的自由载流子数量倍增,这种方式称为雪崩击穿( avalanche),也会导致电流增加。
大多数中等掺杂浓度的PN结二极管在击穿电压为6~8V的范围内是隧道击穿和雪崩击穿两种机理的组合。掺杂浓度越高,耗尽区宽度越窄,击穿电压越低,因此隧道电流大于雪崩电流,反之亦然。但是不管什么机理,在该工作区域经过优化设计的二极管都称为齐纳(Zener)二极管,相应的齐纳电压即为它们的击穿电压。值得注意的是,当一个二极管处于极端和长期处在高电压偏置情况下,无论是反向偏置,还是正向偏置(VD》0.6~0.7V),都会引入非常大的电流,以至于放置器件的材料和封装将承受超过其功耗和热极限的情况,超出其安全工作区(SOA),造成不可逆的破坏。
根据进一步的分析,反向偏置的PN结二极管的P型衬底和N型材料形成两个导电平行板,由电介质(即耗尽区)分开,这就是平行板电容器。耗尽层电容与平行板电容类似,电容值随着横截面积(A)的增加和耗尽区宽度的减小而增加。高掺杂和低反向偏置电压u。(或者更高正向偏置电压uo)的情况,耗尽区宽度更窄,这是由于掺杂高浓度区域更难耗尽载流子,VR越低,那么从合金结吸引到衬底材料上的载流子就越少。
如果在PN结上施加足够大的反向偏置电压,器件将会被击穿,PC817C导通电流通常会反向[也就是iD转向相反方向,见图2.6(c)l。在这些情况下,反向偏置电压超过击穿电压V Br( breakdown voltage)就会导致一种或者两种击穿机理的组合,从而引起电流变化。例如,在高掺杂的PN结中,由于接触边缘很薄,在合金结附近的区域,载流子相对来说较难耗尽,耗尽层宽度较窄,导致PN结上的电场很犬,使得电子利用隧穿效应( tunnel)经过该区域,如图2.7所示。在轻掺杂PN结中,耗尽区宽度更长,因此阻止了隧穿效应的发生,但是反向偏置电压VR进一步增加,该点的电场进一步增加,从而自由电子能量升高,不断加速,由于带有足够的能量,原本价带中限制在一起的电子空穴对,通过称为碰撞电离(impact ionization)的过程将其分开。这样导致自由电荷载流子数量增加(图2.7),从而增加了电流。由于一个自由电子释放一个电子(还有一个空穴),这个过程将使得系统内的自由载流子数量倍增,这种方式称为雪崩击穿( avalanche),也会导致电流增加。
大多数中等掺杂浓度的PN结二极管在击穿电压为6~8V的范围内是隧道击穿和雪崩击穿两种机理的组合。掺杂浓度越高,耗尽区宽度越窄,击穿电压越低,因此隧道电流大于雪崩电流,反之亦然。但是不管什么机理,在该工作区域经过优化设计的二极管都称为齐纳(Zener)二极管,相应的齐纳电压即为它们的击穿电压。值得注意的是,当一个二极管处于极端和长期处在高电压偏置情况下,无论是反向偏置,还是正向偏置(VD》0.6~0.7V),都会引入非常大的电流,以至于放置器件的材料和封装将承受超过其功耗和热极限的情况,超出其安全工作区(SOA),造成不可逆的破坏。
根据进一步的分析,反向偏置的PN结二极管的P型衬底和N型材料形成两个导电平行板,由电介质(即耗尽区)分开,这就是平行板电容器。耗尽层电容与平行板电容类似,电容值随着横截面积(A)的增加和耗尽区宽度的减小而增加。高掺杂和低反向偏置电压u。(或者更高正向偏置电压uo)的情况,耗尽区宽度更窄,这是由于掺杂高浓度区域更难耗尽载流子,VR越低,那么从合金结吸引到衬底材料上的载流子就越少。