场区寄生MOSFET
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:1041
当互连铝线跨过场氧区b、c两个扩散区时,如果互连铝线电位足够高,可能使场区表面反型,形成寄生沟道,使本不应连通的有源区导通,造成工作电流泄漏,使器件电路性能变差,乃至失效。
预防措施:
(1)增厚场氧厚度t’ox,使vtf,但需要增长场氧时间,对前部工序有影响,并将造成台阶陡峭,不利于布线。采用等平面工艺可以改善这些影响。 (2)对场区进行同型注入,提高衬底浓 度,使v’tf。但注意注入剂量不宜过高,以防止某些寄生电容增大,和击穿电压的下降。
2.7.2 寄生双极型晶体管
2.7.3 寄生pnpn效应 闩锁(latch-up)效应
寄生pnpn效应又称 闩锁(latch-up)效应或寄生可控硅(scr)效应。
补充:什么是晶闸管[晶体闸流管](thyristor),别名:可控硅整流器(silicon controlled rectifier—scr)
1956年美国贝尔实验室(bell lab)发明了晶闸管
1957年美国通用电气公司(ge)开发出第一只晶闸管产品
1958年商业化
开辟了电力电子技术迅速发展和广泛应用的崭新时代,它的出现使半导体器件由弱电领域扩展到强电领域。
20世纪80年代以来,开始被性能更好的全控型器件取代
能承受的电压和电流容量最高,工作可靠,在大容量的场合具有重要地位
晶闸管往往专指晶闸管的一种基本类型——普通晶闸管广义上讲,晶闸管还包括其许多类型的派生器件
当互连铝线跨过场氧区b、c两个扩散区时,如果互连铝线电位足够高,可能使场区表面反型,形成寄生沟道,使本不应连通的有源区导通,造成工作电流泄漏,使器件电路性能变差,乃至失效。
预防措施:
(1)增厚场氧厚度t’ox,使vtf,但需要增长场氧时间,对前部工序有影响,并将造成台阶陡峭,不利于布线。采用等平面工艺可以改善这些影响。 (2)对场区进行同型注入,提高衬底浓 度,使v’tf。但注意注入剂量不宜过高,以防止某些寄生电容增大,和击穿电压的下降。
2.7.2 寄生双极型晶体管
2.7.3 寄生pnpn效应 闩锁(latch-up)效应
寄生pnpn效应又称 闩锁(latch-up)效应或寄生可控硅(scr)效应。
补充:什么是晶闸管[晶体闸流管](thyristor),别名:可控硅整流器(silicon controlled rectifier—scr)
1956年美国贝尔实验室(bell lab)发明了晶闸管
1957年美国通用电气公司(ge)开发出第一只晶闸管产品
1958年商业化
开辟了电力电子技术迅速发展和广泛应用的崭新时代,它的出现使半导体器件由弱电领域扩展到强电领域。
20世纪80年代以来,开始被性能更好的全控型器件取代
能承受的电压和电流容量最高,工作可靠,在大容量的场合具有重要地位
晶闸管往往专指晶闸管的一种基本类型——普通晶闸管广义上讲,晶闸管还包括其许多类型的派生器件
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