SIGMA-C推出可防止65nm以下掩膜故障的DFM工具
发布时间:2008/5/28 0:00:00 访问次数:348
sigma-c软件公司推出首个微印刷仿真/图像验证工具，可将电子设计转移到印制晶圆上，以防止65nm下的掩膜故障。
该工具的仿真范围比传统印刷大200倍。它可在芯片设计过程中识别热点，芯片大小为20×20μm。solid+有现货提供，售价140,000美元，此外还提供其它sigma-c模块，如3d掩膜和3d晶圆。
sigma-c软件公司推出首个微印刷仿真/图像验证工具，可将电子设计转移到印制晶圆上，以防止65nm下的掩膜故障。
该工具的仿真范围比传统印刷大200倍。它可在芯片设计过程中识别热点，芯片大小为20×20μm。solid+有现货提供，售价140,000美元，此外还提供其它sigma-c模块，如3d掩膜和3d晶圆。
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