IBM声称采用在全球率采用沉浸蚀刻技术制造商用芯片
发布时间:2007/9/4 0:00:00 访问次数:272
IBM公司日前声称已成为全球率先首家沉浸蚀刻(immersion lithography)技术生产商用芯片的公司。
IBM透露基于沉浸蚀刻技术，制造了采用其Power架构的处理器。这是IBM最近在中国启动的一个大手笔动作的一部分。包括IBM在内的15家公司，如芯片设计公司和制造商，日前在北京公布了开放标准创新项目，其中心是IBM的Power微处理器结构。
沉浸蚀刻技术比传统的投射蚀刻提供更好的分辨率增强及更好的数字孔径(NA)。该技术有望将193纳米工具延伸到45纳米或以下节点，从而推出甚超紫外线(EUV)工具。
一些观察家对IBM的声明表示质疑。目前市场上还没有值得生产的193纳米沉浸扫描器。ASML和尼康正在开发系统，但那些机器最多只是个原型。沉浸技术仍然处于研发阶段。CNSE、ASML、IBM和TEL的研究人员将在集群300mm晶圆扫描器跟踪平台上，合作演示并优化面向193纳米沉浸蚀刻的材料和工艺。此外，AMD和英飞凌科技也将与CNSE合作开发沉浸蚀刻工艺和应用。
（文章来源：电子工程专辑）
IBM公司日前声称已成为全球率先首家沉浸蚀刻(immersion lithography)技术生产商用芯片的公司。
IBM透露基于沉浸蚀刻技术，制造了采用其Power架构的处理器。这是IBM最近在中国启动的一个大手笔动作的一部分。包括IBM在内的15家公司，如芯片设计公司和制造商，日前在北京公布了开放标准创新项目，其中心是IBM的Power微处理器结构。
沉浸蚀刻技术比传统的投射蚀刻提供更好的分辨率增强及更好的数字孔径(NA)。该技术有望将193纳米工具延伸到45纳米或以下节点，从而推出甚超紫外线(EUV)工具。
一些观察家对IBM的声明表示质疑。目前市场上还没有值得生产的193纳米沉浸扫描器。ASML和尼康正在开发系统，但那些机器最多只是个原型。沉浸技术仍然处于研发阶段。CNSE、ASML、IBM和TEL的研究人员将在集群300mm晶圆扫描器跟踪平台上，合作演示并优化面向193纳米沉浸蚀刻的材料和工艺。此外，AMD和英飞凌科技也将与CNSE合作开发沉浸蚀刻工艺和应用。
（文章来源：电子工程专辑）
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