MB90230系列
8.编程模式
当从富士装运，并且每个擦除之后，所有位（ 96K
×
8比特） ，在MB90W234和MB90P234是
在“1”状态。数据是通过选择性地编程“ 0”到所需的位的位置引入。位不能
电设置为1 。
9.擦除程序
写在MB90W234数据被擦除（从0到1）通过使芯片对紫外线的波长
的2,537通过半透明盖。
推荐照射剂量曝光10 WSEC /厘米
2
。达到在15到20分钟这个量
用市售的紫外灯位于2至3厘米以上的包（封装表面时
照度是1200
μW /厘米
2
).
如果紫外线灯有一个过滤器，曝光之前取下过滤器。附加一个镜像盘的灯
增加照度由1.4倍至1.8 ，从而缩短所需的擦除时间。如果透光性
包的一部分被沾上油或粘合剂，紫外线的透射被降解，产生了
再擦除时间。在这种情况下，清洁用酒精半透明部分（或其它溶剂不影响
包） 。
以上推荐的剂量是一个值，它需要保护频带考虑，是多
中的所有比特可以被评估的时间已被擦除。观察擦除推荐剂量;
保护频带的目的是为了确保擦除在所有温度和电源电压范围。此外，
检查灯的寿命和适当地控制照明度。
在MB90W234数据由曝光擦除光的4000A或更小的波长。
在设备的数据也甚至被暴露在荧光灯光或太阳光虽然曝光删除
结果在一个低得多的擦除率比暴露于2537紫外线。需要注意的是暴露在这种灯
因此，长时间将影响系统的可靠性。如果芯片被用在它暴露于任何光
用4000A或更小的波长，覆盖所述透光性部件，例如，用一个保护性密封，以防止
从芯片被暴露于光。
曝光4000波长为5000埃以上不会删除设备中的数据。如果光
施加到芯片具有非常高的照度，但是，该装置可能会导致故障的电路，用于
一般的半导体特性的原因。虽然电路将恢复正常操作时，
曝光停止时，该设备必须有适当的对策在一个地方使用连续暴露
这样的光即使在波长为4,000以上。
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