复合晶体管
XN06534
(XN6534)
NPN硅外延平面型
用于高频放大
4
2.90
+0.20
–0.05
1.9
±0.1
(0.95) (0.95)
5
6
单位:mm
0.16
+0.10
–0.06
1.50
+0.25
–0.05
0.30
+0.10
–0.05
0.50
+0.10
–0.05
■
基本型号
2SC2404
×
2
10
1.1
+0.2
–0.1
(0.65)
两个元素合并到一个包
由一个半减少安装面积和装配成本的
3
2
1
■
绝对最大额定值
T
a
=
25°C
参数
集电极 - 基极电压(发射极开路)
集电极 - 发射极电压(基本开)
发射极 - 基极电压(集电极开路)
集电极电流
总功耗
结温
储存温度
符号
V
CBO
V
首席执行官
V
EBO
I
C
P
T
T
j
T
英镑
等级
30
20
3
15
200
150
55
to
+150
单位
V
V
V
mA
mW
°C
°C
1 :收藏家( Tr1的)
2 :基地( Tr1的)
3 :收藏家( TR2)
EIAJ : SC- 74
0-0.1
标记符号: 7F
内部连接
4
5
6
1.1
+0.3
–0.1
4 :基地( TR2)
5 :发射器( TR2)
6 :发射器( Tr1的)
Mini6 -G1封装
Tr2
3
2
Tr1
1
■
电气特性
T
a
=
25°C
±
3°C
参数
集电极 - 基极电压(发射极开路)
发射极 - 基极电压(集电极开路)
基射极电压
正向电流传输比
h
FE
比
*
跃迁频率
反向传输电容
(共发射极)
功率增益
噪声系数
符号
V
CBO
V
EBO
V
BE
h
FE
h
FE (小
/大)
条件
I
C
=
10
A,
I
E
=
0
I
E
=
10
A,
I
C
=
0
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
mA
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
mA
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
mA
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
200兆赫
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
10.7兆赫
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
100兆赫
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
100兆赫
民
30
3
典型值
最大
单位
V
V
720
40
0.50
450
0.99
650
0.8
24
3.3
1.0
260
mV
兆赫
pF
dB
dB
f
T
C
re
G
P
NF
注) 1.测量方法是基于日本工业标准JIS C 7030测量方法晶体管。
2. * : 2个元素之间的比例
注)括号中的部分数字表示以往的零件号。
出版日期: 2004年3月
SJJ00109BED
0.4
±0.2
■
特点
2.8
+0.2
–0.3
5
1
请求您的特别关注和注意事项使用的技术信息
并在此材料中描述的半导体
( 1)出口许可证需要从日本政府(如果有)的主管当局获得的
下"Foreign交易所在这种材料中描述和控制的产品或技术信息
外贸Law"是要出口或带出日本。
( 2 )在本材料中描述的技术信息仅限于展示有代表性的特点和
该产品的应用电路的例子。它既不保证不侵犯知识产权
或拥有本公司或第三方,也没有授予任何许可的任何其他权利。
( 3 )我们不为权利所因使用该技术的第三方拥有的侵权责任
在本材料中描述的信息。
(4)在此材料中描述的产品旨在被用于标准的应用程序或一般elec-
TRONIC设备(如办公设备,通讯设备,测量仪器及住户
持设备) 。
提前为下列应用程序的信息,请咨询我们的销售人员:
特殊应用(例如用于飞机,航天,汽车,交通控制设备, combus-
化设备,生命支持系统和安全装置),其中出色的质量和可靠性
必需的,或者如果产品的失效或故障可能直接危及生命或损害人类
体。
任何应用程序比预期的标准应用程序等。
( 5 )在本材料中描述的产品和产品规格如有变更,恕不另行通知
修改和/或改进。在您的设计,采购,或者使用的产品的最后阶段,
因此,要求最先进的最新产品标准提前,以确保最新的规范
系统蒸发散满足您的要求。
( 6 )在设计你的装备,顺应保证值,尤其是最大额定的
荷兰国际集团,工作电源电压,以及热辐射特性的范围内。否则,我们不会
对于可能在你的设备后出现的任何缺陷承担责任。
即使产品的保证值范围内使用,考虑到发病的代价
分解和破坏模式,可能发生对半导体产品。在这样的制度措施
作为冗余设计,阻止火灾或防止毛刺的蔓延,建议为了防止
物理损伤,火灾,社会的损害,例如,通过使用产品。
(7 )在使用的量防潮包装是必需的产品,观察的条件(包括货架寿命
和时间量,让站在密封的物品)约定,当规格表被单独
交换。
( 8 )该材料可不能转载或复制全部或部分,未经事先书面
松下电器产业株式会社许可
2003年九月
复合晶体管
XN06534
(XN6534)
NPN硅外延平面型
用于高频放大
4
2.90
+0.20
–0.05
1.9
±0.1
(0.95) (0.95)
5
6
单位:mm
0.16
+0.10
–0.06
1.50
+0.25
–0.05
0.30
+0.10
–0.05
0.50
+0.10
–0.05
■
基本型号
2SC2404
×
2
10
1.1
+0.2
–0.1
(0.65)
两个元素合并到一个包
由一个半减少安装面积和装配成本的
3
2
1
■
绝对最大额定值
T
a
=
25°C
参数
集电极 - 基极电压(发射极开路)
集电极 - 发射极电压(基本开)
发射极 - 基极电压(集电极开路)
集电极电流
总功耗
结温
储存温度
符号
V
CBO
V
首席执行官
V
EBO
I
C
P
T
T
j
T
英镑
等级
30
20
3
15
200
150
55
to
+150
单位
V
V
V
mA
mW
°C
°C
1 :收藏家( Tr1的)
2 :基地( Tr1的)
3 :收藏家( TR2)
EIAJ : SC- 74
0-0.1
标记符号: 7F
内部连接
4
5
6
1.1
+0.3
–0.1
4 :基地( TR2)
5 :发射器( TR2)
6 :发射器( Tr1的)
Mini6 -G1封装
Tr2
3
2
Tr1
1
■
电气特性
T
a
=
25°C
±
3°C
参数
集电极 - 基极电压(发射极开路)
发射极 - 基极电压(集电极开路)
基射极电压
正向电流传输比
h
FE
比
*
跃迁频率
反向传输电容
(共发射极)
功率增益
噪声系数
符号
V
CBO
V
EBO
V
BE
h
FE
h
FE (小
/大)
条件
I
C
=
10
A,
I
E
=
0
I
E
=
10
A,
I
C
=
0
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
mA
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
mA
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
mA
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
200兆赫
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
10.7兆赫
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
100兆赫
V
CB
=
6 V,I
E
= 1
毫安,女
=
100兆赫
民
30
3
典型值
最大
单位
V
V
720
40
0.50
450
0.99
650
0.8
24
3.3
1.0
260
mV
兆赫
pF
dB
dB
f
T
C
re
G
P
NF
注) 1.测量方法是基于日本工业标准JIS C 7030测量方法晶体管。
2. * : 2个元素之间的比例
注)括号中的部分数字表示以往的零件号。
出版日期: 2004年3月
SJJ00109BED
0.4
±0.2
■
特点
2.8
+0.2
–0.3
5
1
请求您的特别关注和注意事项使用的技术信息
并在此材料中描述的半导体
( 1)出口许可证需要从日本政府(如果有)的主管当局获得的
下"Foreign交易所在这种材料中描述和控制的产品或技术信息
外贸Law"是要出口或带出日本。
( 2 )在本材料中描述的技术信息仅限于展示有代表性的特点和
该产品的应用电路的例子。它既不保证不侵犯知识产权
或拥有本公司或第三方,也没有授予任何许可的任何其他权利。
( 3 )我们不为权利所因使用该技术的第三方拥有的侵权责任
在本材料中描述的信息。
(4)在此材料中描述的产品旨在被用于标准的应用程序或一般elec-
TRONIC设备(如办公设备,通讯设备,测量仪器及住户
持设备) 。
提前为下列应用程序的信息,请咨询我们的销售人员:
特殊应用(例如用于飞机,航天,汽车,交通控制设备, combus-
化设备,生命支持系统和安全装置),其中出色的质量和可靠性
必需的,或者如果产品的失效或故障可能直接危及生命或损害人类
体。
任何应用程序比预期的标准应用程序等。
( 5 )在本材料中描述的产品和产品规格如有变更,恕不另行通知
修改和/或改进。在您的设计,采购,或者使用的产品的最后阶段,
因此,要求最先进的最新产品标准提前,以确保最新的规范
系统蒸发散满足您的要求。
( 6 )在设计你的装备,顺应保证值,尤其是最大额定的
荷兰国际集团,工作电源电压,以及热辐射特性的范围内。否则,我们不会
对于可能在你的设备后出现的任何缺陷承担责任。
即使产品的保证值范围内使用,考虑到发病的代价
分解和破坏模式,可能发生对半导体产品。在这样的制度措施
作为冗余设计,阻止火灾或防止毛刺的蔓延,建议为了防止
物理损伤,火灾,社会的损害,例如,通过使用产品。
(7 )在使用的量防潮包装是必需的产品,观察的条件(包括货架寿命
和时间量,让站在密封的物品)约定,当规格表被单独
交换。
( 8 )该材料可不能转载或复制全部或部分,未经事先书面
松下电器产业株式会社许可
2003年九月