NTHD4508N
功率MOSFET
20 V , 4.1 A,双N沟道ChipFETt
特点
低R
DS ( ON)
和快速开关速度
无铅ChipFET包装有小40 %,体积比TSOP - 6
优秀的散热能力在哪里传热是必需的
无铅包装是否可用
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V
( BR ) DSS
20 V
R
DS ( ON)
典型值
60毫瓦@ 4.5 V
80毫瓦@ 2.5 V
I
D
最大
4.1 A
应用
DC-DC降压/升压转换器
电池和低侧开关的便携式设备,如MP3
播放器,手机, DSC和掌上电脑
电平转换
最大额定值
(T
J
= 25 ° C除非另有说明)
参数
漏极至源极电压
栅极 - 源极电压
连续漏极
当前
稳定
状态
t
v
5s
功耗
稳定
状态
t
v
5s
漏电流脉冲
T
J
= 25
°C
T
J
= 85
°C
T
J
= 25
°C
T
J
= 25
°C
T
J
= 85
°C
T
J
= 25
°C
I
DM
T
J
,
T
英镑
T
L
P
D
符号
V
DSS
V
GS
I
D
价值
20
±12
3.0
2.2
4.1
1.13
0.59
2.1
12
-55
150
260
A
°C
°C
W
单位
V
V
A
D
1
, D
2
G
1
, G
2
S
1
, S
2
N沟道MOSFET
ChipFET
CASE 1206A
方式2
t
p
= 10
s
工作结温和存储温度
无铅焊接温度的目的
( 1/8“从案例10秒)
针
连接
D
1
8
D
1
7
1 S
1
2 G
1
3 S
2
4 G
2
1
2
3
4
记号
图
8
7
6
5
C8
M
热电阻额定值
参数
结 - 环境 - 稳态
(注1 )
符号
R
θJA
最大
110
单位
° C / W
D
2
6
D
2
5
最大额定值超出该设备损坏可能会发生这些值。
施加到器件的最大额定值是个人压力限值(不
正常工作条件下),并同时无效。如果这些限制
超标,设备功能操作不暗示,可能会出现损伤和
可靠性可能受到影响。
1.表面安装在FR4板采用1平方焊盘尺寸(铜面积= 1.27的平方
[ 1盎司]包括痕迹) 。
C8 =具体设备守则
M =月守则
订购信息
设备
NTHD4508NT1
NTHD4508NT1G
包
ChipFET
ChipFET
(无铅)
航运
3000 /磁带&卷轴
3000 /磁带&卷轴
。有关磁带和卷轴规格,
包括部分方向和磁带大小,请
请参阅我们的磁带和卷轴包装规格
宣传册, BRD8011 / D 。
半导体元件工业有限责任公司, 2004年
1
2004年10月 - 第3版
出版订单号:
NTHD4508N/D
NTHD4508N
焊接足迹*
2.032
0.08
0.457
0.018
0.635
0.025
0.635
0.025
2.032
0.08
1.032
0.043
0.178
0.007
0.457
0.018
0.711
0.028
0.66
0.026
0.66
0.026
0.254
0.010
尺度20:1
mm
英寸
图11.基本
图12.样式2
*有关我们的无铅战略和焊接的其他信息
详细信息,请下载安森美半导体焊接与
安装技术参考手册, SOLDERRM / D 。
BASIC垫图案
其尺寸基本焊盘布局显示在
图11.这是足够低的功耗
MOSFET的应用,但功率半导体
性能,需要更大的铜焊盘面积,特别是
为漏极引线。
在图中所示的推荐的最小焊盘图案
12提高了排水连接(引脚散热面积
5,6, 7,8 ),而基本的范围内剩余
足迹。漏铜面积为0.0019平方英寸(或1.22平方米。
毫米)。这将有助于功耗的路径远离
该设备(通过铜引线框架),并进入到
主板和机箱外部(如适用)为单
装置。在加入另外的铜的面积和/或所述的
除了通孔的其他板层将增强
性能更进一步。
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