1998年1月
NDS8426A
单N沟道增强型场效应晶体管
概述
SO - 8 N沟道增强型功率场效应
晶体管都采用飞兆半导体专有的,高生产
细胞密度, DMOS技术。这非常高的密度
工艺特别适合于减小导通状态
性,并提供出色的开关性能。
这些装置特别适用于低电压
应用,例如笔记本电脑的电源
管理和其它电池供电的电路,其中
快速开关,低线的功率损耗,以及电阻
需要瞬变。
特点
10.5 A, 20 V
DS ( ON)
= 0.0135
@ V
GS
= 4.5 V.
R
DS ( ON)
= 0.016
@ V
GS
= 2.7 V.
高密度电池设计极低R
DS ( ON)
.
高功率和电流处理能力的一种广泛使用的
表面贴装封装。
___________________________________________________________________________________________
5
6
7
8
4
3
2
1
绝对最大额定值
T
A
= 25 ° C除非另有说明
符号
V
DSS
V
GSS
I
D
P
D
参数
漏源电压
栅源电压
漏电流 - 连续
- 脉冲
最大功率耗散
(注1A )
(注1B )
(注1C )
(注1A )
NDS8426A
20
±8
10.5
30
2.5
1.2
1
-55到150
单位
V
V
A
W
T
J
,T
英镑
R
θJA
R
θJC
工作和存储温度范围
°C
热特性
热阻,结到环境
热阻,结到外壳
(注1A )
(注1 )
50
25
° C / W
° C / W
1998仙童半导体公司
NDS8426A Rev.B的
1
电气特性
(T
A
= 25 ° C除非另有说明)
符号
I
S
V
SD
注意事项:
1. R
θ
JA
在这里的情况下热参考被定义为漏极引脚的焊锡安装表面的结到壳体和壳到环境的热阻之和。
θ
JC
被担保
设计,同时
θ
CA
是通过用户的电路板的设计来确定。
参数
连续源二极管电流
漏源二极管的正向电压
条件
民
典型值
最大
2.1
单位
A
V
漏源二极管的特性
V
GS
= 0 V,I
S
= 2.1 A
0.6
1.2
(注2 )
P
D
(
t
) =
T
J
T
A
R
θJA
(t)
=
T
J
T
A
R
θJC
+R
= CA
(t)
=
I
2
(
t
) ×
R
DS ( ON) @T
J
D
典型
θ
JA
使用上4.5"x5" FR- 4 PCB的静止空气环境下图所示的电路板布局:
a. 50
o
装在一个1在C / W的时
2
垫2盎司覆铜。
b. 105
o
安装在一个0.04 C / W的时
2
垫2盎司覆铜。
c. 125
o
安装在一个0.006 C / W的时
2
垫2盎司覆铜。
1a
1b
1c
在信纸尺寸的纸张1 : 1规模
2.脉冲测试:脉冲宽度< 300μS ,占空比< 2.0 % 。
NDS8426A Rev.B的
1