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DF2B6.8M1ACT
ESD保护二极管
硅外延平面
DF2B6.8M1ACT
1.应用
ESD保护
本产品设计用于防止静电放电(ESD ) ,但不适合用于任何其它
用途,包括,但不限于,电压调节。
注意:
2.包装与内部电路
1 : 1针
2 : 2针
CST2
25
3.绝对最大额定值(注) (除特别注明外,T
a
= 25
)
特征
静电放电电压( IEC61000-4-2 ) (联系方式)
结温
储存温度
符号
V
ESD
T
j
T
英镑
等级
±8
150
-55到150
单位
kV
注意:
在重负载下连续使用(如高温/电流/电压和应用
在温度等显著变化)可能会导致此产品在可靠性,降低显著甚至
如果操作条件(即工作温度/电流/电压等)内的绝对最大
收视率。
请在审查东芝半导体可靠性手册设计适当的可靠性
( "Handling Precautions" / "Derating概念和Methods" )和个人数据的可靠性(即可靠性试验
报告与估计的故障率,等)。
1
2012-07-03
Rev.2.0
DF2B6.8M1ACT
4.电气特性(除非另有规定,T
a
= 25
)
25
V
RWM
:工作峰值反向
电压
V
BR
:反向击穿电压
I
BR
:反向击穿电流
I
R
:反向电流
V
C
:钳位电压
I
PP
:峰值脉冲电流
R
DYN
:动态性
图。电气特性的4.1定义
特征
工作峰值反向电压
反向击穿电压
反向电流
钳位电压
动态电阻
总电容
符号
V
RWM
V
BR
I
R
V
C
R
DYN
C
t
I
BR
= 1毫安
测试条件
6.0
典型值。
12
0.8
0.3
最大
5.0
0.5
0.5
单位
V
V
A
V
pF
V
RWM
= 5 V
(注1 )I
PP
= 1 A
(注2 )
(注3 )V
R
= 0 V , F = 1兆赫
注1 :根据IEC61000-4-5 8/20
s
脉搏。
注2 : TLP参数: Z0 = 50
, TP = 100纳秒, TR = 300 ps的,平均的窗口: T1 = 30 ns至T2 = 60纳秒,
采用最小二乘方拟合的TLP的特征在I动态电阻的萃取
PP
A A. 3至8
注3 :设计保证。
5.保证ESD保护(注)
测试条件
IEC61000-4-2 (接触放电)
ESD保护
±8
kV
注意:
标准:无损坏设备。
2
2012-07-03
Rev.2.0
DF2B6.8M1ACT
6.标记
图。 6.1标识
标识代码
NB
产品型号
DF2B6.8M1ACT
7.焊盘图案尺寸(仅供参考)
图。 7.1盘图形尺寸(单位:毫米)
3
2012-07-03
Rev.2.0
DF2B6.8M1ACT
8.特性曲线(注)
图。 8.1 I - V
图。 8.2我
R
- V
R
图。 8.3
t
- V
R
注意:
图。 8.4
t
- f
上述特性曲线呈现仅供参考,不生产测试保障,
除非另有说明。
4
2012-07-03
Rev.2.0
DF2B6.8M1ACT
9.钳位电压(V
C
) - 峰值脉冲电流(I
PP
) (注)
图。 9.1 V
C
- I
PP
注意:
图。 9.2基于IEC61000-4-5 8/20
脉搏。
上述特性曲线呈现仅供参考,不生产测试保障,
除非另有说明。
10.插入损耗( S21 ) (注)
图。 10.1 S21 - F
注意:
上述特性曲线呈现仅供参考,不生产测试保障,
除非另有说明。
5
2012-07-03
Rev.2.0
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