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> CP329V
过程
CP329V
小信号晶体管
NPN-硅达林顿晶体管芯片
流程细节
过程
模具尺寸
模具厚度
BASE焊盘区
发射极焊盘区
顶面金属化
背面金属化
几何
PER 4英寸晶圆DIE总值
15,980
主体装置类型
CMPTA29
CZTA29
MPSA29
外延平面
27 ×27 MILS
7.1 MILS
4.2 X 4.2 MILS
4.3× 4.3 MILS
Al
Au
- 30,000
- 13,000
145亚当斯大街
Hauppauge的,纽约州11788美国
联系电话: ( 631 ) 435-1110
传真: ( 631 ) 435-1824
www.centralsemi.com
R0 ( 20 -January 2006)
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CP329V
PDF信息
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供货商
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CP329V
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