过程
CP285
功率晶体管
NPN - 硅功率晶体管芯片
中央
TM
半导体公司
流程细节
模具尺寸
模具厚度
BASE焊盘区
发射极焊盘区
顶面金属化
背面金属化
105 ×105 MILS
9.5 MILS
32× 22 MILS
33 ×24 MILS
艾尔 - 45,000
钛/镍/银 - ( 3000埃, 10,000A , 10,000A )
几何
每5英寸晶圆DIE总值
1,486
主体装置类型
MJE13005
145亚当斯大街
Hauppauge的,纽约州11788美国
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传真: ( 631 ) 435-1824
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R0 (2006年20月)