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HS-22620RH
数据表
1999年8月
网络文件编号
4349.1
抗辐射双路,宽带,高投入
阻抗无偿工作
扩增fi er
该HS- 22620RH是抗辐射的,双极双
运算放大器连接器,具有非常高的输入阻抗
再加上宽带的AC性能。高
输入级的电阻的补充低失调
电压(为6mV
最大
在25
o
C) ,低偏置电流( 50nA最大
在25
o
C) ,以方便精确的信号处理。抵消
电压还可以通过一个外部的装置,可以减少
调零电位器。稳定的闭环增益更大
比10, 20V /μs的最小转换速率为25
o
C与
80KV / V最小开环增益为25
o
C,使
HS- 22620RH执行的速度非常快高增益放大器阳离子,
宽带信号。这些动态特性,耦合
与快速建立时间,使这些放大器器非常适合
脉冲放大器阳离子设计,以及高频或
视频应用。该放大器ER的频率响应
可以根据通过的一个手段,以精确的设计要求
外部带宽控制电容。
特定网络阳离子抗辐射QML设备进行控制
由美国国防供应中心在哥伦布( DSCC ) 。该
订货时这里列出SMD号码必须使用。
详细的电气特定网络连接的阳离子为这些设备是
载于SMD 5962-97512 。 “热链接”提供
我们的网页上下载。
www.intersil.com/spacedefense/space.asp
特点
电筛选,以SMD # 5962-97512
符合MIL -PRF- 38535 QML要求QUALI网络版
高输入阻抗。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 65MΩ (最小值)
高增益。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 80KV / V(最小值)
高转换率。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 20V / μs的(最小)
低输入偏置电流。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 50nA (最大)
低输入失调电压。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。为6mV (最大值)
宽增益带宽积(A
V
10)。 。 。 。 .100MHz (典型值)
输出短路保护
总剂量。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 3×10
5
Rad公司(SI )
应用
视频和RF放大器器
脉冲放大器器
高Q值有源滤波器
高速比较器
订购信息
订购数量
5962F9751201V9A
5962F9751201VXC
HS9-22620RH/PROTO
国内
MKT 。 NUMBER
HS0-22620RH-Q
HS9-22620RH-Q
HS9-22620RH/PROTO
TEMP 。 RANGE
(
o
C)
25
-55至125
-55至125
引脚
HS-22620RH
( FLATPACK )
顶视图
( 1 ) BAL 2A
( 2 ) BAL 1A
( 3 ) + IN A
( 4 ) -IN一
( 5)打开
( 6 ) -IN B
( 7 ) + IN B
( 8 ) BAL 1B
( 9 ) BAL 2B
-
+
+
-
V
CC
A (18)
V
EE
A (17)
OUT A( 16 )
COMP A( 15 )
WEB ( 14 )
B组份( 13 )
OUT B ( 12 )
VEE B( 11 )
V
CC
B (10)
注:请参阅SMD ,图1
1
注意:这些器件对静电放电敏感;遵循正确的IC处理程序。
1-888- INTERSIL或321-724-7143 | 1999版权所有 Intersil公司
HS-22620RH
测试电路和波形
VAC IN
+
-
50
1.8K
VAC OUT
50pF
200
图1.简化测试电路(适用于SMD表1 )
+5.0V
+0.5V
输入
-0.5V
+ SL
-SL
-0.5V
T
SR =
+0.5V
-5.0V
V
T
T
V
产量
V
+5.0V
-5.0V
注:包括杂散电容。
图2.压摆率波形
产量
V
最终科幻
= + 400mV的
V
PEAK
80%
输入
20%
0V
+40mV
0V
t
r
80%
0V
t
r
, + OS
t
f
, -OS
-40mV
t
f
V
PEAK
-400mV
0V
20%
注:在测量正反两方面的转变。电容补偿引脚应最小。
图3.过冲,上升和下降时间波形
2
HS-22620RH
动态老化测试电路
HS9-22620RH -Q FLATPACK
V
1
1
R
1
2
3
4
F
O
R
1
5
6
7
8
9
-
+
+
-
18
17
16
15
14
13
12
11
10
V
2
R
1
R
2
C
1
R
1
R
2
C
1
注意事项:
1. V
1
= +15V
±0.5V.
2. V
2
= -15V
±0.5V.
3. R
1
=采用2.2kΩ , 1 / 8W分钟(5 %)。
4. R
2
= 50Ω , 1 / 8W分钟( 2 %)。
5. C
1
= 0.1μF , 10 % ,每插槽v一个上限。
6. F
0
= 10kHz时,
±10%,
占空比为50% 。
7. V
IH
= + 100mV的
±10mV.
8. V
IL
= -100mV
±10mV.
辐射暴露电路
V
1
1
R
2
2
3
4
5
R
2
6
7
8
9
-
+
+
-
18
17
16
15
14
13
12
11
10
V
2
R
1
R
2
C
1
R
1
R
2
C
1
注意事项:
9. V
1
= +15V
±0.5V.
10. V
2
= -15V
±0.5V.
11. R
1
=采用2.2kΩ , 1 / 8W分钟(5 %)。
12. R
2
= 50Ω , 1 / 8W分钟( 2 %)。
13. C
1
= 0.1F,
±10%,
每插槽v一个上限。
Intersil所有半导体产品的制造,组装和测试下
ISO9000
质量体系CERTI网络阳离子。
Intersil的半导体产品仅出售描述。 Intersil公司保留在任何时间与 - 进行更改电路设计和/或特定网络阳离子权
出通知。因此,告诫读者,以验证数据表之前订货电流。 Intersil提供的信息被认为是准确和
可靠的。然而,承担任何责任由Intersil或其子公司供其使用;也不对第三方专利或其他权利的任何侵犯,可能导致
从它的使用。没有获发牌照以暗示或以其他方式Intersil公司或其子公司的任何专利或专利权。
关于Intersil公司及其产品的信息,请参阅网站
http://www.intersil.com
3
HS-22620RH
模具特点
DIE尺寸:
145密耳X 116密耳×19密耳
±1
米尔
3670μm X 2950μm X 483μm
±25.4m
界面材料:
玻璃钝化:
类型:氮化硅( Si 3 N 4 )在二氧化硅层( SIO2 , 5 %磷酸)。
二氧化硅层厚度: 12K
±2k
氮化物厚度: 3.5K
±1.5k
顶级金属化:
牌号的Al , 1 %的Cu
厚度: 14K
±2k
基材:
双极键合晶片( EBHF )
背面表面处理:
大会相关信息:
衬底电位(电) :
无偏硅
( WEB垫为衬底搭配了。 )
附加信息:
最坏情况下的电流密度:
<2 ×10
5
A /厘米
2
晶体管数量:
184
金属掩模布局
HS-22620RH
BAL1A
(2)
BAL2A
(1)
VCCA
(18)
VEEA
(17)
+ INA (3)
( 16 ) OUTA
-INA (4)
( 15 ) COMPA
( 14 ) WEB
( 13 ) COMPB
-INB ( 6 )
( 12 ) OUTB
+ INB ( 7 )
(8)
BAL1B
(9)
BAL2B
(10)
VCCB
(11)
VEEB
4
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联系人:刘经理
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