- 界限模型与耐久模型2018/2/15 19:31:37 2018/2/15 19:31:37
- 从上一节中已知，K4D553238F-JC2A元器件或材料的性能与其微观结构有密切关系。而性能的劣化或变化又与其周围环境条件和负荷条件等的变化有关，它将引起外部或内部应力变化，其结果将导致特性值...[全文]
- 怀疑是滤波器接地不良导致的滤波器滤波效果变差2018/2/14 20:24:17 2018/2/14 20:24:17
- 怀疑是滤波器接地不良导致的滤波器滤波效果变差。于是把机箱放在接地平面上,MAX1645AEEI滤波器电源用短线直接接地,结果仍然没有改善。怀疑滤波器性能指标不能满足电源本身传导骚扰水平而导致超标...[全文]
- 气体放电管的工作原理是气体放电2018/2/14 20:13:31 2018/2/14 20:13:31
- 气体放电管的工作原理是气体放电。MAX1632CAI当两极间的电压足够大时,极间间隙将被放电击穿,由原来的绝缘状态转化为导电状态,类似短路。导电状态下两极间维持的电压很低,一般在⒛~~sOⅤ之间...[全文]
- 共模扼流圈的作用主要是滤除低频共模干扰2018/2/14 20:10:35 2018/2/14 20:10:35
- 例如,电源滤波器,当它被安装在系统中后,既能有效地抑制电子设备外部的干扰信号传人设备,又能大大衰减设备本身工作时产生的传向电网的骚扰信号。MAX1631EAI它具有互易性,产品中只要选择适当的滤...[全文]
- 电感器的标注方法2018/2/13 21:14:51 2018/2/13 21:14:51
- 电感器的标注方法M51945AFP电感器的标注方法有直标法、文字符号法、数码法和色标法。1)直标法直标法是在小型电感器的外壳上直接用文字标出电感器的主要...[全文]
- 电感器的分类2018/2/13 21:11:07 2018/2/13 21:11:07
- 电感器通常分为两大类:一类是应用于自感作用的电感线圈;另一类是应用于互感作用的变压器。M4A3-32/32-10VC481.电感线圈的分类(1)按电感量变化情况分类,...[全文]
- 电位器的检测与选用2018/2/13 20:55:35 2018/2/13 20:55:35
- 1.电位器的检测M29W160EB-70N6电位器的检测通常使用万用表进行测量,具体测量内容如下,符合其中3个条件的为好的;否则为坏的。(1)测量两固定端的阻值是否和...[全文]
- 晶体管混频实验2018/2/12 19:26:33 2018/2/12 19:26:33
- 一、实验目的HZIN2232GJCDIP0G熟悉混频器的工作原理，学会对三极管混频器的调整，了解混频器中包络失真的组合频率干扰现象，以及混频器工作点的选择和本振电压幅度对混频增益的...[全文]
- 掌握高频小信号谐振放大器的基本工作原理2018/2/12 19:13:06 2018/2/12 19:13:06
- 一、实验目的HZICXC622125230G1．掌握高频小信号谐振放大器的基本工作原理。2．掌握高频小信号谐振放大器电压增益、通频带和选择性的定义、测试及计算。...[全文]
- 光学传递函数2018/2/11 14:14:31 2018/2/11 14:14:31
- 前面介绍的分辨率和点列图等方法都是基于把物体看作是发光点的集合,K4S561632N-LC60并以点成像时的能量集中程度来表征光学系统的成像质量的c,用点列图法时,由于有像差系统的弥散斑图样很复...[全文]
- 光学系统的像质评价2018/2/11 14:07:41 2018/2/11 14:07:41
- 在理想光学系统中,从物点发出的所有光线经过光学系统后都会聚在像点上。K4S561632H-UC60而实际的光学系统则不然,物空间的一个物点发出的光线经实际光学系统后,不再会聚于像空间的一点,而是...[全文]
- 光学系统的视场2018/2/11 14:04:36 2018/2/11 14:04:36
- (1)视场和视场光阑K4S561632D-UC75光学系统的视场定义为光学系统可以成像的物空间的范围。可以用物空间的几何尺寸表示,如显微成像系统等;也可以用物空间对光学系统所张的角...[全文]
- 电化学型2018/2/11 13:55:24 2018/2/11 13:55:24
- 电化学型涂层又分为阳极氧化涂层和电镀涂层两类,其基本原理是利用电化学方法在金属表面形成特定的氧化层或电镀一层所需的金属。K4S511632B-TC75一般铝表面都会形成一层很薄的氧...[全文]
- 辐射基本定律2018/2/11 13:43:42 2018/2/11 13:43:42
- 在初步认识了红外辐射的基本性质和度量标准之后,本节将讨论红外辐射遵循的基本定律。K4PAG304EQ-AGC2这里讨论的辐射基本定律在整个电磁辐射波谱范围内都是适用的。下面将从辐射能量的产生、分...[全文]
- 杂质原子的大部分靠近晶圆表面2018/2/10 20:36:43 2018/2/10 20:36:43
- 第4个问题由掺杂区的物埋或数学特性引出.杂质原子的大部分靠近晶圆表面。PCA9554D这使得大部分电流会在杂质主要分布的表面区附近流动。遗憾的是，这个区域（晶圆内和表面）与沾污干扰或电流退化区相...[全文]
- 高集成度电路的发展需要更小的特征图形尺寸与更近的电路器件间距2018/2/10 20:35:28 2018/2/10 20:35:28
- 高集成度电路的发展需要更小的特征图形尺寸与更近的电路器件间距。热扩散对先进电路的生产有所限制。5个挑战分别是横向扩散、’超浅结、粗劣的掺控制、PCA9544APW表面污染的干涉和位错的产生。横向...[全文]
- 半导体材料的独特性质之一是它们的导电性和导电类型2018/2/10 20:30:40 2018/2/10 20:30:40
- 半导体材料的独特性质之一是它们的导电性和导电类型（N型或P型）能够通过在材料中掺入专门的杂质而被产生和控制。这个概念在第2章和第3章中已被探讨。PCA9535PW一个具有或者N型（...[全文]
- 聚亚胺酯填充垫或其他一些特殊材料制成2018/2/10 20:21:19 2018/2/10 20:21:19
- 接着，在第一层光刻胶的上面，再徐一层相对比较薄的对紫外线敏感的正胶。PCA82C250T这一层薄抛光垫由铸形用聚亚胺酯(polyurethane)泡沫材料和填料、聚亚胺酯填充垫或其他一些特殊材料...[全文]
- 投影光刻机的发展2018/2/10 20:17:55 2018/2/10 20:17:55
- 投影光刻机的发展（投影对准机和步进光刻机）大大延长了掩模版和放大掩模版的使用寿命．，PC16550DVX这也促进了高质量的掩模版和放大掩模版的发展。在生产线上，掩模版使用r很长一段时间以后，卜面...[全文]
- 应力强度模型主要用来模拟机械设备的损坏2018/2/9 21:06:31 2018/2/9 21:06:31
- 应力强度模型主要用来模拟机械设备的损坏，而反应论模型则用来模拟化学反应等导致的失效。HZIN22555840440G它是指电子元器件的劣化和损坏等失效，是在原子、分子这样的级别上随时间发生的变化...[全文]
热门点击
- 掌握高频小信号谐振放大器的基本工作原理
- N型半导体和P型半导体
- 声电转换器
- DAC的性能指标
- .额定电流(正向平均电流)
- 光学系统的视场
- 施密特触发器在波形变换、整形等方面的基本
- 用锁相环构成FM解调器
- 二次击穿现象
- 主流铜研磨液的主要成分及作用
IC型号推荐
- PEB20902N
- PEB20902N V2.3
- PEB20902N V2.3
- PEB20902NV1.1
- PEB20902NV2.3
- PEB20902NV2.3GIEC-TA
- PEB20902NV23
- PEB20902NVB3
- PEB20902P
- PEB20902PV2.3
- PEB20902PV23
- PEB20902V2.3
- PEB2091
- PEB2091 V5.1
- PEB2091FV5.1
- PEB2091H V5.1
- PEB2091H V5.2
- PEB2091HV5.1
- PEB2091HV51
- PEB2091-IEC-Q
- PEB2091IEC-Q
- PEB2091IEC-QV5.1
- PEB2091N
- PEB2091N V3.3
- PEB2091N V5.1
- PEB2091N V5.3
- PEB2091N 5.3V
- PEB2091N V3.3
- PEB2091N V4.2
- PEB2091N V4.3
公网安备44030402000607
