典型的磁化曲线,磁导率等于醢线的斜率
发布时间:2014/4/13 16:44:29 访问次数:2711
在高频吸收损耗为主,如式(6-13)所示,吸收损耗是磁导率和电导率乘积的平方根的函数。对于铜,相对磁导率和相对电导率的乘积为1。 MT47H128M16RT-25EIT由于钢的电导率大约是铜的1/10(表6-1),当相对磁导率下降为10时,相对磁导率和相对电导率的乘积仍为1。对于钢,这种情况出现在频率为1. 5GHz时(见表6-4)。因此,高于此频率,钢实际提供的吸收损耗小于铜,因为磁导率不够大不足以抵消钢较小的导电率。
作为屏蔽的磁性材料的有效性随磁场强度H改变。图6-21是一个典型的髫耗曲线。静态磁导率是B和H的比值。可以看出,最大磁导率,也就是最大屏蔽效能,出现在中等场强上。较高的和较低的场强,磋导率比较低,屏蔽效果较差。在高场强的屏蔽效果取决于磁饱和度,饱和度取决于材料类型和材料厚度。在饱和度以上的磁场强度,磁导率迅速降低。通常,磁导率越大,造成磁饱和的磁场强度越低。大多数磁性材料说明书会给出在最佳频率和磁场强度下的最佳磁导率,这样的说明书可能会产生误导。
为了克服磁饱和现象,可以使用多层磁屏蔽,一个例子如图6-22所示。第一屏蔽层(低磁导率材料例如钢)在较高的磁饱和水平,第二屏蔽层(高磁导率材料如镍铁合金)在低磁饱和水
平。第一层屏蔽降低磁场的幅度到某一值不会使第二层屏蔽磁饱和,然后第二层提供大部分的磁场屏蔽。这些屏蔽层也可以使用导体,如铜作为第一层屏蔽,磁性材料作为第二层屏蔽。
低磁导率高饱和度的材料通常作为靠近磁场源的屏蔽层。在一些困难的情况下,为了获得所需的磁场衰减需要另加屏蔽层。多层屏蔽的另一个优点是增加的反射面会增加反射损耗。
加工一些高磁导率材料,如镍铁合金或坡莫合金,可能降低它们的磁性能。如果材料跌落或受到冲击也会如此。所以材料必须在加工或成型后再退火以恢复其原来的磁性能。
在高频吸收损耗为主,如式(6-13)所示,吸收损耗是磁导率和电导率乘积的平方根的函数。对于铜,相对磁导率和相对电导率的乘积为1。 MT47H128M16RT-25EIT由于钢的电导率大约是铜的1/10(表6-1),当相对磁导率下降为10时,相对磁导率和相对电导率的乘积仍为1。对于钢,这种情况出现在频率为1. 5GHz时(见表6-4)。因此,高于此频率,钢实际提供的吸收损耗小于铜,因为磁导率不够大不足以抵消钢较小的导电率。
作为屏蔽的磁性材料的有效性随磁场强度H改变。图6-21是一个典型的髫耗曲线。静态磁导率是B和H的比值。可以看出,最大磁导率,也就是最大屏蔽效能,出现在中等场强上。较高的和较低的场强,磋导率比较低,屏蔽效果较差。在高场强的屏蔽效果取决于磁饱和度,饱和度取决于材料类型和材料厚度。在饱和度以上的磁场强度,磁导率迅速降低。通常,磁导率越大,造成磁饱和的磁场强度越低。大多数磁性材料说明书会给出在最佳频率和磁场强度下的最佳磁导率,这样的说明书可能会产生误导。
为了克服磁饱和现象,可以使用多层磁屏蔽,一个例子如图6-22所示。第一屏蔽层(低磁导率材料例如钢)在较高的磁饱和水平,第二屏蔽层(高磁导率材料如镍铁合金)在低磁饱和水
平。第一层屏蔽降低磁场的幅度到某一值不会使第二层屏蔽磁饱和,然后第二层提供大部分的磁场屏蔽。这些屏蔽层也可以使用导体,如铜作为第一层屏蔽,磁性材料作为第二层屏蔽。
低磁导率高饱和度的材料通常作为靠近磁场源的屏蔽层。在一些困难的情况下,为了获得所需的磁场衰减需要另加屏蔽层。多层屏蔽的另一个优点是增加的反射面会增加反射损耗。
加工一些高磁导率材料,如镍铁合金或坡莫合金,可能降低它们的磁性能。如果材料跌落或受到冲击也会如此。所以材料必须在加工或成型后再退火以恢复其原来的磁性能。
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