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离子注入技术在IC制造中的应用

发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:558

随着离子注入技术的发展，它的应用也越来越广泛，尤其是在集成电路中的应用发展最快。由于离子注入技术具有很好可控性和重复性，这样设计者就可根据电路或器件参数的要求，设计出理想的杂质分布，并用离子注入技术实现这种分布。
离子注入技术在ic制造中的应用
1) 对mos晶体管阈值电压的控制
2)自对准金属栅结构
3)离子注入在cmos结构中的应用


随着离子注入技术的发展，它的应用也越来越广泛，尤其是在集成电路中的应用发展最快。由于离子注入技术具有很好可控性和重复性，这样设计者就可根据电路或器件参数的要求，设计出理想的杂质分布，并用离子注入技术实现这种分布。
离子注入技术在ic制造中的应用
1) 对mos晶体管阈值电压的控制
2)自对准金属栅结构
3)离子注入在cmos结构中的应用


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