光罩和Reticles相关知识
发布时间:2008/6/5 0:00:00 访问次数:694
现代光刻依靠的一种类似于放大照片底片的投影印刷。图2.6 是简化的曝光过程。透镜系统校准一个强uv光源，称为光罩的金属盘子会挡住光线。uv光穿过光罩中透明的部分和另外的透镜在wafer上形成图像。图2.6中的仪器叫做aligner，因为她必须保证mask的图像和已存在的wafer上的图案精确对准。
图2.6 简化的用aligner光罩曝光。
作为光罩底层的透明版图必须在尺寸上很稳定，否则它投影的图案和先前其他mask投影的图案就不会对齐了。这些板子通常是含有fused silica（通常被误认为是石英）。在plate的表面上了一薄层金属后，用任何一种不同的但高精度－－但是很慢很费钱－－的方法制造光罩。光罩上的图形通常是投影到wafer 现代光刻依靠的一种类似于放大照片底片的投影印刷。图2.6 是简化的曝光过程。透镜系统校准一个强uv光源，称为光罩的金属盘子会挡住光线。uv光穿过光罩中透明的部分和另外的透镜在wafer上形成图像。图2.6中的仪器叫做aligner，因为她必须保证mask的图像和已存在的wafer上的图案精确对准。 图2.6 简化的用aligner光罩曝光。 作为光罩底层的透明版图必须在尺寸上很稳定，否则它投影的图案和先前其他mask投影的图案就不会对齐了。这些板子通常是含有fused silica（通常被误认为是石英）。在plate的表面上了一薄层金属后，用任何一种不同的但高精度－－但是很慢很费钱－－的方法制造光罩。光罩上的图形通常是投影到wafer 上一篇：光刻胶相关知识 上一篇：什么是Patterning?
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