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12英寸碳化硅衬底激光剥离自动化解决方案

发布时间:2025/5/22 8:05:07 访问次数:11

12英寸碳化硅衬底激光剥离自动化解决方案

引言

随着现代电子技术的发展,碳化硅(SiC)作为一种优异的半导体材料,逐渐成为广泛应用于电力电子、射频设备和光电子领域的关键材料。

12英寸碳化硅衬底的需求持续增长,推动了其在制造业中的应用。然而,传统的剥离技术往往面临着效率低、成本高和操作复杂等诸多问题。

研究并开发出一种高效、自动化的激光剥离方案显得尤为重要。

激光剥离技术概述

激光剥离技术是近年来发展较为迅速的一种表面处理方法,主要依赖于激光束对材料的局部加热,引发热应力,从而实现材料的分离。

对于碳化硅衬底而言,激光剥离不仅可以有效减少材料的损耗,还能够保持衬底的完整性和物理特性。激光剥离的核心在于选择适当的波长、能量和束斑尺寸,以保证剥离过程中对周围材料的影响最小化。

自动化系统设计

自动化激光剥离系统的构建是实现高效剥离的关键。

该系统主要由激光器、光学系统、运动控制系统、监测反馈系统和人机界面五大部分组成。

1. 激光器的选择 激光剥离过程中,选择合适的激光器至关重要。对于碳化硅材料,常用的激光器包括二氧化碳激光器和光纤激光器。二氧化碳激光器具有较高的功率和优良的加工质量,而光纤激光器则具有更高的转换效率和更小的体积。综合考虑,采用波长为1064 nm的光纤激光器,能够有效穿透材料表面并达到剥离效果。

2. 光学系统的优化 在激光剥离过程中,光学系统不仅用于聚焦激光束,还需要对光束进行均匀化处理,以确保激光能量均匀分布。通过采用高精度透镜和光学元件,可以实现激光束在衬底表面的最佳聚焦,进而提高能量的传递效率。

3. 运动控制系统的设计 运动控制系统负责激光头的精确定位和移动。为实现高精度的剥离操作,运动控制系统需具备高分辨率和快速响应的特点。采用伺服电机和高精度线性导轨,可以确保激光束沿着预定轨迹移动,从而实现均匀的剥离效果。

4. 监测反馈系统 为了提高剥离过程的稳定性和可控性,引入监测反馈系统是必要的。该系统通过传感器实时监测剥离过程中温度、激光功率及位移等关键参数,并将数据反馈至控制系统,确保剥离操作在设定的安全范围内进行。

5. 人机界面设计 人机界面是操作员与系统之间的桥梁,设计时应注重界面的友好性和操作的便捷性。通过图形化界面,操作员可实时监控剥离过程,并进行参数调整,从而提升系统的灵活性和可操作性。

激光剥离工艺流程

该自动化激光剥离系统的具体工艺流程包括以下几个步骤:

1. 衬底准备 在激光剥离之前,需要对碳化硅衬底进行清洁和表面处理,以去除表面尘埃和污染物,保证剥离过程的顺利进行。

2. 激光参数设定 根据衬底的材料和厚度,设置激光的功率、脉冲频率和曝光时间。通常,功率设置在500-1000W,脉冲频率在20-50 kHz之间,以确保最佳的剥离效果。

3. 激光剥离操作 启动激光系统后,激光束将按照设定轨迹移动,并对碳化硅衬底进行局部加热。通过控制激光的作用时间,激光剥离可以精确控制在所需范围内。

4. 剥离效果监测 在剥离过程中,实时监测衬底的温度变化及剥离状态,及时调整激光参数,确保剥离效果达到预期。

5. 剥离后处理 剥离完成后,对衬底表面进行检查,确保没有残留物和损伤。同时,进行必要的后处理,如去除可能存在的微小颗粒和残余材料,以满足后续的使用要求。

继续进行的研究方向

未来,在激光剥离技术的研究和开发中,还需要不断探索新的激光材料和设备,以提高剥离的效率和质量。同时,更多的智能化和自适应控制技术的引入,将为激光剥离自动化系统的完善提供新的可能性。此外,深入研究激光与材料相互作用机制,将为激光剥离技术的优化和新应用拓展开辟新的思路。

12英寸碳化硅衬底激光剥离自动化解决方案

引言

随着现代电子技术的发展,碳化硅(SiC)作为一种优异的半导体材料,逐渐成为广泛应用于电力电子、射频设备和光电子领域的关键材料。

12英寸碳化硅衬底的需求持续增长,推动了其在制造业中的应用。然而,传统的剥离技术往往面临着效率低、成本高和操作复杂等诸多问题。

研究并开发出一种高效、自动化的激光剥离方案显得尤为重要。

激光剥离技术概述

激光剥离技术是近年来发展较为迅速的一种表面处理方法,主要依赖于激光束对材料的局部加热,引发热应力,从而实现材料的分离。

对于碳化硅衬底而言,激光剥离不仅可以有效减少材料的损耗,还能够保持衬底的完整性和物理特性。激光剥离的核心在于选择适当的波长、能量和束斑尺寸,以保证剥离过程中对周围材料的影响最小化。

自动化系统设计

自动化激光剥离系统的构建是实现高效剥离的关键。

该系统主要由激光器、光学系统、运动控制系统、监测反馈系统和人机界面五大部分组成。

1. 激光器的选择 激光剥离过程中,选择合适的激光器至关重要。对于碳化硅材料,常用的激光器包括二氧化碳激光器和光纤激光器。二氧化碳激光器具有较高的功率和优良的加工质量,而光纤激光器则具有更高的转换效率和更小的体积。综合考虑,采用波长为1064 nm的光纤激光器,能够有效穿透材料表面并达到剥离效果。

2. 光学系统的优化 在激光剥离过程中,光学系统不仅用于聚焦激光束,还需要对光束进行均匀化处理,以确保激光能量均匀分布。通过采用高精度透镜和光学元件,可以实现激光束在衬底表面的最佳聚焦,进而提高能量的传递效率。

3. 运动控制系统的设计 运动控制系统负责激光头的精确定位和移动。为实现高精度的剥离操作,运动控制系统需具备高分辨率和快速响应的特点。采用伺服电机和高精度线性导轨,可以确保激光束沿着预定轨迹移动,从而实现均匀的剥离效果。

4. 监测反馈系统 为了提高剥离过程的稳定性和可控性,引入监测反馈系统是必要的。该系统通过传感器实时监测剥离过程中温度、激光功率及位移等关键参数,并将数据反馈至控制系统,确保剥离操作在设定的安全范围内进行。

5. 人机界面设计 人机界面是操作员与系统之间的桥梁,设计时应注重界面的友好性和操作的便捷性。通过图形化界面,操作员可实时监控剥离过程,并进行参数调整,从而提升系统的灵活性和可操作性。

激光剥离工艺流程

该自动化激光剥离系统的具体工艺流程包括以下几个步骤:

1. 衬底准备 在激光剥离之前,需要对碳化硅衬底进行清洁和表面处理,以去除表面尘埃和污染物,保证剥离过程的顺利进行。

2. 激光参数设定 根据衬底的材料和厚度,设置激光的功率、脉冲频率和曝光时间。通常,功率设置在500-1000W,脉冲频率在20-50 kHz之间,以确保最佳的剥离效果。

3. 激光剥离操作 启动激光系统后,激光束将按照设定轨迹移动,并对碳化硅衬底进行局部加热。通过控制激光的作用时间,激光剥离可以精确控制在所需范围内。

4. 剥离效果监测 在剥离过程中,实时监测衬底的温度变化及剥离状态,及时调整激光参数,确保剥离效果达到预期。

5. 剥离后处理 剥离完成后,对衬底表面进行检查,确保没有残留物和损伤。同时,进行必要的后处理,如去除可能存在的微小颗粒和残余材料,以满足后续的使用要求。

继续进行的研究方向

未来,在激光剥离技术的研究和开发中,还需要不断探索新的激光材料和设备,以提高剥离的效率和质量。同时,更多的智能化和自适应控制技术的引入,将为激光剥离自动化系统的完善提供新的可能性。此外,深入研究激光与材料相互作用机制,将为激光剥离技术的优化和新应用拓展开辟新的思路。

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