硅MOSFET体二极管从而消除了与硅器件相关的反向恢复电荷
发布时间:2024/7/14 10:46:19 访问次数:104
随着物联网的普及,白色家电和工业设备的自动化进程加速,使得产品的功耗不断增加,为了有效利用有限的地球资源和电力,对进一步降低功耗的需求不断提高,与此同时,对于负责功率转换工作的功率半导体之一IGBT以及配备了IGBT的模块,也提出了进一步降低功耗的要求。
另一方面,在IGBT IPM的开发中,为了降低功耗通常会优先考虑低损耗,致使产品噪声特性恶化的情况较多,这就需要改善噪声特性。
在这种情况下,新开发出四款可同时降低辐射噪声和功率损耗、并在这两方面均实现了业内超高特性的IGBT IPM系列产品。

GaN能够为电机驱动应用实现更好的死区时间优化:
与硅MOSFET相比,GaN FET具有更快的开关速度。这允许对死区时间进行更精确的控制,因为GaN FET的关断和开启时间明显更短。这种更快的开关速度允许对死区时间进行更严格的控制。
与硅MOSFET相比,GaN FET具有更低的栅极电容。这意味着它们可以更快地打开和关闭,从而缩短死区时间,而不会产生击穿电流的风险。这可以实现更高效的运行,并更好地优化电机驱动应用中的死区时间。
GaN FET没有像硅MOSFET那样的体二极管,从而消除了与硅器件相关的反向恢复电荷。这减少了电机驱动应用中所需的有效死区时间,因为无需考虑体二极管的恢复时间。
控制死区时间由控制器插入,可确保正有效死区时间。计算此死区时间是一个复杂的过程,需要考虑传播延迟、栅极电阻值和FET开启/关闭时间等因素。由于GaN器件没有体二极管反向恢复且开关时间更快,因此与硅MOSFET相比,GaN器件的死区时间更短。
这些电流不会产生任何有用的扭矩,但会导致电机绕组损耗增加,整体效率降低。
http://jhbdt1.51dzw.com深圳市俊晖半导体有限公司
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另一方面,在IGBT IPM的开发中,为了降低功耗通常会优先考虑低损耗,致使产品噪声特性恶化的情况较多,这就需要改善噪声特性。
在这种情况下,新开发出四款可同时降低辐射噪声和功率损耗、并在这两方面均实现了业内超高特性的IGBT IPM系列产品。

GaN能够为电机驱动应用实现更好的死区时间优化:
与硅MOSFET相比,GaN FET具有更快的开关速度。这允许对死区时间进行更精确的控制,因为GaN FET的关断和开启时间明显更短。这种更快的开关速度允许对死区时间进行更严格的控制。
与硅MOSFET相比,GaN FET具有更低的栅极电容。这意味着它们可以更快地打开和关闭,从而缩短死区时间,而不会产生击穿电流的风险。这可以实现更高效的运行,并更好地优化电机驱动应用中的死区时间。
GaN FET没有像硅MOSFET那样的体二极管,从而消除了与硅器件相关的反向恢复电荷。这减少了电机驱动应用中所需的有效死区时间,因为无需考虑体二极管的恢复时间。
控制死区时间由控制器插入,可确保正有效死区时间。计算此死区时间是一个复杂的过程,需要考虑传播延迟、栅极电阻值和FET开启/关闭时间等因素。由于GaN器件没有体二极管反向恢复且开关时间更快,因此与硅MOSFET相比,GaN器件的死区时间更短。
这些电流不会产生任何有用的扭矩,但会导致电机绕组损耗增加,整体效率降低。
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