X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多。关于ASML指责中国企业东方晶源侵权一事就迅速成为热点，目前的进展，还是停留在东方晶源的回复上，其表示报道与事实不符，东方晶源有自主的知识产权。

EUV光刻机的发展路线图,其EUV光刻机的下一个重大技术变革,将会是高数值孔径系统。

高数值孔径系统，简单来说就是光刻机的光学镜头部分，而增大镜头的数值孔径，可以确保光刻机制造更先进的芯片。或许这样的信息对大家来说没有什么其他感觉，但其实很不寻常，其实该消息的出现，就意味着ASML又回到了30年前的状态。

L2+行泊一体芯片解决方案，采用先进工艺，最大算力16Tops，单颗SOC实现行泊一体功能，并可采用自然散热，推动自动驾驶系统向8-10万元的入门级车型覆盖，重新定义入门级自动驾驶解决方案。

从车企的角度，希望车企可以给国内的芯片公司更多的机会，通过联合开发项目，牵引国产的SOC成为更符合车企需求的SOC，更多使用国产化芯片提升供应链安全性。此外，支持引导生态打造，鼓励国内芯片企业、算法公司、Tier 1等企业的强强合作。

提及中国的芯片巨头，或许不少国人率先想到公司会是华为。华为海思在芯片行业取得的一系列可观成绩，为中国芯片的国产化添砖加瓦。

液压缸I6水平运动液压缸Ⅱ垂直运动,多缸顺序专用铣床液压系统.

但是从反方向来说，选择X射线光刻机路线也面临着非常大的难度，首先就是产业链问题.高达10万个零件背后所牵扯到的是包括光源系统、光学镜头系统、双工件台系统等等全球多家顶级科技企业的结晶。