小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产,中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV(极紫外线)光刻机,掌握了90%以上的高端光刻机市场份额。最新的两代高端光刻机领域，即浸入式(Immersion)和极紫外线式(EUV)光刻机，全部由阿斯麦掌握核心技术。

光刻机在芯片制造中的重要性不言而喻,而在遭到断供威胁之后,着手研究新型光刻机来应对ASML的断供威胁,EUV光刻机是如今先进制程芯片制造中必不可少的设备之一.

为了制定下一代光刻机标准，由美国能源部牵头联合了IBM、英特尔、AMD、摩托罗拉等科技企业以及劳伦斯利弗莫尔、桑迪亚和劳伦斯伯克利三大实验室，最终得以在极紫外光技术取得突破，而ASML则成为EUV光刻机的具体制造者。

螺旋传动的特点 可以把回转运动变为直线运动,而且结构简单,传动平稳,噪声小;

螺杆上的导程可以做得很小,可获得很大的减速比,可以做成微调机构,如千分尺中的测杆螺旋机构.

可以用一个较小的扭矩产生一个较大的推力,如螺旋干斤顶;选择合适的导程角γ(γ≤6°),可以使螺旋机构具有自锁性,如铣床升降台的升降螺旋不会因自重而滑下。

性能方面，除了300W大功率的亮点外，这款无线充电模块还具备灵敏的FOD异物检测和NFC功能，可以保证方案在量产时的安全性。

根据我们简单测试的结果，由于无线充电模块的空载功耗在5-6W左右，在负载电流比较小时效率会略低；负载电流越大效率越高，实测150W负载效率可达90%左右。