实现<0.1mm共面性支持NVIDIA新芯片的大规模CoWoS封装
发布时间:2022/3/22 12:15:26 访问次数:823
全新的PCM120T系列屏蔽型SMT功率电感器。 PCM电感器专门经过优化,非常适合高饱和电流和低直流电阻的应用。
其中PCM120T系列可提供介于0.4μH至10μH的14种电感值,饱和电流最大可达80A,具体视电感值L而定。新元件具有诸多特点和优势,比如:采用金属合金磁芯以获得优异的饱和特性;采用扁平绕组结构最大限度降低损耗,具有0.72mΩ (0.4 μH) 至 9mΩ (10μH) 的低电阻值 (RDC);外壳采用屏蔽的密封磁芯,无外部气隙,电感周围具有非常出色的EMC性能;引线框架结构,非常适合自动焊点AOI检测,并且实现了<0.1mm的共面性;
绝缘性能良好的金属合金磁芯,可承受高压脉冲(满足ISO7636标准)。
与传统的硅基器件相比,GaN和SiC的工作电压更高、开关速度更快、导通电阻更低,因此在能效方面可以做到超越。
虽然都是宽禁带器件,但GaN和SiC的器件特性也有着明显的差异,其中SiC的工作电压要比GaN高得多,因此更适用于高压的应用中,譬如汽车和工业等大功率系统设备中;而GaN的开关频率要更快,因此更适合快充、射频开关等应用领域,例如一些小型化的电源适配器等、射频开关等。
借助SiC和GaN这类宽禁带器件,可以在传统拓扑上实现更简单和高效的设计,从而实现系统层面上整体的成本降低,实现小型化和轻量化。
以支持NVIDIA新芯片的大规模CoWoS封装。
NVIDIA新一代计算芯片,基于新的Hopper架构,也是第一款基于多芯片模块设计(MCM)的GPU,将采用台积电5nm工艺制造和CoWoS先进封装,支持HBM2e内存和其他连接特性。
Blackwell架构的下一代HPC芯片,可能会采用台积电HPC专用的N4X工艺节点进行试生产的,但仍有待观察,AMD也采用了CoWoS技术封装其大部分HPC和服务器芯片,同时将其部分产品通过日月光的FOEB 2.5D IC解决方案进行封装,以降低成本。
全新的PCM120T系列屏蔽型SMT功率电感器。 PCM电感器专门经过优化,非常适合高饱和电流和低直流电阻的应用。
其中PCM120T系列可提供介于0.4μH至10μH的14种电感值,饱和电流最大可达80A,具体视电感值L而定。新元件具有诸多特点和优势,比如:采用金属合金磁芯以获得优异的饱和特性;采用扁平绕组结构最大限度降低损耗,具有0.72mΩ (0.4 μH) 至 9mΩ (10μH) 的低电阻值 (RDC);外壳采用屏蔽的密封磁芯,无外部气隙,电感周围具有非常出色的EMC性能;引线框架结构,非常适合自动焊点AOI检测,并且实现了<0.1mm的共面性;
绝缘性能良好的金属合金磁芯,可承受高压脉冲(满足ISO7636标准)。
与传统的硅基器件相比,GaN和SiC的工作电压更高、开关速度更快、导通电阻更低,因此在能效方面可以做到超越。
虽然都是宽禁带器件,但GaN和SiC的器件特性也有着明显的差异,其中SiC的工作电压要比GaN高得多,因此更适用于高压的应用中,譬如汽车和工业等大功率系统设备中;而GaN的开关频率要更快,因此更适合快充、射频开关等应用领域,例如一些小型化的电源适配器等、射频开关等。
借助SiC和GaN这类宽禁带器件,可以在传统拓扑上实现更简单和高效的设计,从而实现系统层面上整体的成本降低,实现小型化和轻量化。
以支持NVIDIA新芯片的大规模CoWoS封装。
NVIDIA新一代计算芯片,基于新的Hopper架构,也是第一款基于多芯片模块设计(MCM)的GPU,将采用台积电5nm工艺制造和CoWoS先进封装,支持HBM2e内存和其他连接特性。
Blackwell架构的下一代HPC芯片,可能会采用台积电HPC专用的N4X工艺节点进行试生产的,但仍有待观察,AMD也采用了CoWoS技术封装其大部分HPC和服务器芯片,同时将其部分产品通过日月光的FOEB 2.5D IC解决方案进行封装,以降低成本。