VP系列电容器磁存储器元件集成到高性能逻辑基中
发布时间:2022/2/2 19:49:37 访问次数:611
存内计算给MRAM提供了新的思路,过去MRAM磁阻内存很难用于存内计算,因为MRAM在标准的存内计算架构中无法发挥低功耗优势。
三星公司成功开发出新的MRAM阵列,通过新型“电阻”和计算架构,替换当前采用的架构。
MRAM有20多年的发展历史,但是由于其电阻特性,商用之路极其缓慢,本次三星与哈佛大学的新研究可能解决了这一障碍,MRAM从此更近一步。
2003年,IBM和英飞凌将磁存储器元件集成到高性能逻辑基中,开发出当时 “最先进的MRAM”。
VP系列提供 10、16、25 和 35V至 10,000 μF参数,以及从10×12.5mm至18×40mm各种尺寸。这些电容器具有RoHS 合规性和“无卤素”属性。
在高温下提供更低电阻:VP系列电容器在-40°C至+135°C温度范围内具有出色的高可靠性,并且在高压和高温下的电容变化率较低,因此具有特别高的电气可靠性和较长的使用寿命。
uClamp 0511T和uClamp 1211T手机保护器件具有低高度、低漏电和低电容,在便携应用中,该器件设计取代了多层变阻器(MLV)。
双向uClampxx11T器件采用2引脚SLP1006P2T 1.0x0.6x0.4-mm封装。
该系列在125度额定温度时,电容范围为470 nf~35nf,额定电压为25~1,000 V,150度时和更高温度时将比正常电容额定值略低一些。
VP系列还符合AEC-Q200标准,非常适合用于再生制动系统,电动汽车的电源和LED应用。
(素材来源:转载自网络,如涉版权请联系删除,特别感谢)
存内计算给MRAM提供了新的思路,过去MRAM磁阻内存很难用于存内计算,因为MRAM在标准的存内计算架构中无法发挥低功耗优势。
三星公司成功开发出新的MRAM阵列,通过新型“电阻”和计算架构,替换当前采用的架构。
MRAM有20多年的发展历史,但是由于其电阻特性,商用之路极其缓慢,本次三星与哈佛大学的新研究可能解决了这一障碍,MRAM从此更近一步。
2003年,IBM和英飞凌将磁存储器元件集成到高性能逻辑基中,开发出当时 “最先进的MRAM”。
VP系列提供 10、16、25 和 35V至 10,000 μF参数,以及从10×12.5mm至18×40mm各种尺寸。这些电容器具有RoHS 合规性和“无卤素”属性。
在高温下提供更低电阻:VP系列电容器在-40°C至+135°C温度范围内具有出色的高可靠性,并且在高压和高温下的电容变化率较低,因此具有特别高的电气可靠性和较长的使用寿命。
uClamp 0511T和uClamp 1211T手机保护器件具有低高度、低漏电和低电容,在便携应用中,该器件设计取代了多层变阻器(MLV)。
双向uClamx11T器件采用2引脚SLP1006P2T 1.0x0.6x0.4-mm封装。
该系列在125度额定温度时,电容范围为470 nf~35nf,额定电压为25~1,000 V,150度时和更高温度时将比正常电容额定值略低一些。
VP系列还符合AEC-Q200标准,非常适合用于再生制动系统,电动汽车的电源和LED应用。
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