电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo Twin-Star®，用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用。

中微公司双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star®

基于中微公司业已成熟的单台反应器的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀技术和双台反应器的Primo平台，Primo Twin-Star®为电介质前道/后道制程、多晶硅刻蚀、DTI和BSI刻蚀等提供了高性价比的刻蚀解决方案。

产品种类: 差分放大器

RoHS: 详细信息

系列: THS4509

通道数量: 1 Channel

GBP-增益带宽产品: 3 GHz

SR - 转换速率 : 6.6 kV/us

CMRR - 共模抑制比: 90 dB

每个通道的输出电流: 440 mA

Ib - 输入偏流: 15.5 uA

Vos - 输入偏置电压 : 4 mV

电源电压-最大: 5.25 V

电源电压-最小: 3 V

最小工作温度: - 40 C

最大工作温度: + 85 C

安装风格: SMD/SMT

封装 / 箱体: VQFN-16

封装: Reel

放大器类型: Differential

特点: Shutdown

产品: Differential Amplifiers

商标: Texas Instruments

输入电压范围—最大: Positive Rail - 0.75 V (typ)

开发套件: THS4509EVM

湿度敏感性: Yes

工作电源电压: 5.25 V

Pd-功率耗散: 2300 mW

产品类型: Differential Amplifiers

工厂包装数量: 3000

子类别: Amplifier ICs

单位重量: 24.100 mg

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