过去二年多由台积电主要推广规格的半导体新一代技术浸润式（immersion）显影，近日由显影设备大厂荷兰ASML交出第一台一九三奈米雏形机，已于三日运抵新竹，四日正式移入台积电十二厂。台积电研发部门将利用这台浸润式显影设备进行相关制程研发，预计于六五奈米世代量产此技术。

  　浸润式显影最主要的推动者是台积电微制像技术发展处资深处长林本坚，他也是半导体显影技术研发的先锋耆宿，十多年前从美国IBM退休以后，于公元二千年在台积电资深研发副总蒋尚义延揽下至台积电。近二年来，林本坚一直奔走于国际间显影技术相关研讨会，鼓吹业界考虑浸润式技术的可行性。

　  这次ASML交出的雏形机台，堪称是由台积电首次主导业界规格的新设备。另两家显影设备厂日本佳能及尼康，也将在明年陆续推出浸润式一九三奈米显影机。去年底，国际半导体技术蓝图(ITRS)年会，已正式将浸润式显影技术列入ITRS的讨论项目之中。

　  林本坚曾简单解释，一九三奈米浸润式显影机的问世，晶圆厂只需支出较一九三奈米“干式”显影机多出约一、二成的价格，即可达到原本一五七奈米显影机才能处理的微细线宽。原本全球三大显影设备厂发展一五七奈米显影技术，整个光源、显影剂、光罩、及蚀刻材料都需大翻新，研发成本较一九三奈米技术至少倍增。因此近一年来，原本已向显影设备厂下订一五七奈米机台的国际半导体厂，已全数取消订单，目前已经有十家半导体公司都下单需求一九三奈米浸润式微影雏形机。

　  浸润式显影最主要的推动者是台积电微制像技术发展处资深处长林本坚，他也是半导体显影技术研发的先锋耆宿，十多年前从美国IBM退休以后，于公元二千年在台积电资深研发副总蒋尚义延揽下至台积电。近二年来，林本坚一直奔走于国际间显影技术相关研讨会，鼓吹业界考虑浸润式技术的可行性。