罗姆公司的三大战略：第一个是功率器件，第二个是通用器件，第三个是模拟器件。罗姆的功率元器件战略即力争全球领先的市场份额。在全球的市场上罗姆二极管的市场份额占第三位，大约占有10%左右的份额；如果只在车载市场上看罗姆二极管的份额在全球是第一位，大约占20%。ROHM功率器件制造本部、功率二极管制造部、商品开发部组长田中宏幸先生如此介绍ROHM的市场地位。

罗姆功率二极管60%的销售份额来自于车载市场，在动力传动系统等车载系统（xEV等）、工业设备逆变器、各种电源设备等，全部都是支持AEC-Q101，都是对应车载的产品，在车载上可以高温运转，可以使它节能，可以使小型化的新产品。

二极管，特别是肖特基二极管在汽车行业上会得到很大的应用，比如汽车行业，包括电动汽车，从2019-2024年的5年期间增长比较大，平均年增长15%左右”，水原先生如此描述汽车行业二极管的发展趋势,就是“CASE”，C是Connected，跟外部相连的信息娱乐系统；A，是自动驾驶或者Autonomous；S是我们所说的Share，也就是网关；E就是三电、电气化，OBC、逆变器、DC/DC或者LED灯。

DLP650LNIR。这是首个适用于大功率近红外系统的DMD。该DMD设计能够支持波长范围950nm到1150nm光波段近红外并进行光谱优化，功率达160 W。这颗芯片组可以把我们带到近红外领域，使金属粉末打印成为可能，帮助DLP技术从支持3D领域扩展到了金属粉末打印。无论是UV还是近红外，DLP技术仍然可以保持固有的优势，高分辨率、高精度、160W高功率确保在激光烧结成型上达到最好的3D产品打印质量。工业近红外可以应用于3D打印、数字打印和动态激光打标。

7nm EUV工艺的下一代手机处理器Exynos 9825。三星称，通过7nm EUV工艺，新处理器的生产过程可以减少 20% 的光罩流程，使整个制造过程更简单，还能节省时间和金钱，另外还达成40%面积缩小、以及20%性能增加与55%的功耗降低目标。台积电也在6月份宣布批量生产7nmN7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术。并表明这种新工艺的产量已经可以达到原来7nm工艺的水平了。

在EUV之外，7nm 节点还有另外一种技术路径，即采用 193nm 波长+SAQP 四重图案化达到所需分辨率。下图黄线中红点处即代表采用193i 浸没式光刻机+SAQP四重图案技术，对应英特尔所选择的技术路线；7nm在蓝线中蓝色区域代表采用EUV光刻机单次图案化，代表台积电和三星所选择的技术路线。在之后的 5nm 节点，193i 光刻机技术难度更大，采用 EUV 双重图案化是较为合理的选择。

DLP技术也可适用于汽车透明车窗投影，在保持车窗透明度不干涉驾驶员视野的同时，可以显示足够多的信息，提供更多的交互。