飞利浦扩展使用新思前端设计平台，用于90纳米
发布时间:2007/8/30 0:00:00 访问次数:316
新思科技公司(Synopsys)近日宣布，飞利浦电子(Philips Electronics)已经和新思科技公司签署了一份新的多年期批量购买协议(volume purchase agreement)，延伸并扩展了针对飞利浦半导体领域的Synopsys Galaxy前端(front-end)设计平台的配置。新协议同样拓展了飞利浦在电源管理与可测设计主要设计领域中Galaxy工具的使用。飞利浦将把这些产品主要用于其CMOS090(90纳米)和CMOS065(65纳米)及更高的半导体处理工艺的设计。
飞利浦半导体设计技术部门副总裁兼总经理Lambert van den Hoven表示：“飞利浦在其参考设计流(reference design flow)方面的Galaxy前端工具标准化促进了其先进产品的首次成功率(first-time right success rate)。运用现有最佳的电子设计自动化(EDA)工具获得单一参考设计流对帮助实现这个目标是很重要的”
新思科技公司执行部门高级副总裁兼总经理Antun Domic说：“我们将和飞利浦合作以继续满足他们的产品设计进度，并附带解决盛行于90纳米及以下产品设计的能量消耗以及先进可测性的挑战性问题。”（转自 电子工程专辑）
新思科技公司(Synopsys)近日宣布，飞利浦电子(Philips Electronics)已经和新思科技公司签署了一份新的多年期批量购买协议(volume purchase agreement)，延伸并扩展了针对飞利浦半导体领域的Synopsys Galaxy前端(front-end)设计平台的配置。新协议同样拓展了飞利浦在电源管理与可测设计主要设计领域中Galaxy工具的使用。飞利浦将把这些产品主要用于其CMOS090(90纳米)和CMOS065(65纳米)及更高的半导体处理工艺的设计。
飞利浦半导体设计技术部门副总裁兼总经理Lambert van den Hoven表示：“飞利浦在其参考设计流(reference design flow)方面的Galaxy前端工具标准化促进了其先进产品的首次成功率(first-time right success rate)。运用现有最佳的电子设计自动化(EDA)工具获得单一参考设计流对帮助实现这个目标是很重要的”
新思科技公司执行部门高级副总裁兼总经理Antun Domic说：“我们将和飞利浦合作以继续满足他们的产品设计进度，并附带解决盛行于90纳米及以下产品设计的能量消耗以及先进可测性的挑战性问题。”（转自 电子工程专辑）
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