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sEM技术的发展趋势

发布时间:2019/5/23 20:58:39 访问次数:1767

   sEM技术的发展趋势

   随着科学技术的进步,SEM也在不断向前发展。当前,SEM技术发展主要在以下几个方面。GAL20V8B-10LJI

   (I)高性能场发射电子枪。高性能场发射电子枪能够为sEM提供高亮度、高相干性的电子光源,使sEM能够在原子――纳米尺度上对材料的原子排列和种类进行综合分析。

   (2)发展新一代单色器和球差校正器。常规透射电镜的球差系数Cs约为毫米级,现在的透射电镜的球差系数已降低到C烬0.05rrm。常规的透射电镜的色差系数约为01。物镜球差校正器把场发射透射电镜分辨率从0,19nm提高到0.12nm,甚至于小于0,hm。由于球差校正色差大约增大了30%,因此,校正球差的同时,也要考虑校正色差。另一方面单色器能量分辨率将小于0,1cV,但单色器后的束流只有不加单色器时束流的1/10左右。因此,利用单色器的同时,也要考虑单色器的束流减少问题。

   (3)电子显微镜分析工作迈向计算机化和网络化。目前sEM的操作系统已经使用了全新的操作界面,用户只需按动鼠标,就可以实现SEM镜筒和电气部分的控制,以及各类参数的自动记忆和调节。不同地区之间,可以通过网络系统实现对SEM的遥控操作。如样品的移动、成像模式的改变、SEM参数的调整、图像的获取和存储等。


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