敞口喷淋头配高速旋转盘式反应室:该产品为中晟公司技术,综合利用了喷淋头进气和高速旋转转盘技术的优点,反应腔结构如图⒈11所示。 P3R12E4JFF-Y5喷淋头设计配高速旋转转盘,两者间的距离超过50mm,既提供了均匀的气体分配,又利用了高速旋转的吸泵效应,实现了优良的成膜均匀性,保证了反应源的高效利用和薄膜高质量外延生长。  

   进气系统采用喷淋头,实现了气体有效均匀混合;其喷孔较大,且敞口外扩,有效避免了喷淋头表面沉积物的形成,减少了开腔维护的频次,提升了设备的利用率。该技术中托盘与旋转系统的结合设计巧妙可靠,使得托盘可以特别薄,在不增加转动惯量的情况下可以面积更大,从而明显提升单炉产能。反应室的加热系统为4区加热,灵活便捷地实现了良好的温场均匀性。反应室配置有高速采样光学温度计和宽频谱滤波稳定功能,并配有热电偶,提高了测温的准确性和重复性,同时避免了其他设备技术中光学温度测量系统必须采用的复杂昂贵的辐射修正系统。中晟的原位监测系统,高度集成了温度和反射测量功能,且独创性地实现了动态绝对定位追踪与分析功能。

    MOCVD设备中的尾气处理系统、智能控制与数据系统,以及原位实时监测系统等均是保障设备安全可靠和功能完整之重要的子系统。限于篇幅,本节只做简单介绍,更多详细内容可参阅陆大成的著作[l㈨。