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行星卫星式气浮旋转水平反应室

发布时间:2018/6/30 22:11:18 访问次数:2255

   行星卫星式气浮旋转水平反应室(Planetary Reactor):该技术为德国爱思强(AIXTRON)公司产品。在结构上,其Ⅲ族和V族反应 RA08N1317M源分别从上盖经中央水冷处理的三层气流喷嘴进入反应室,通过环状格栅和喷嘴靠近托盘中心的圆形挡板阻挡,使气流被迫转向沿放置衬底的大石墨托盘(行星盘)和石英/石墨天棚之间的3ω°环形空间,呈辐射状向外缘水平流动。这样的结构带来几个明显效果:天棚(cciling)和托盘基座靠得很近,抑制了对流旋涡从而获得层流;三层流喷口的上、下两层流为V族气流,中间层为Ⅲ族气流,且喷嘴有主动水冷,这样就有利于抑制预反应,并进

一步促进层流的形成与保持。行星大盘上有多个放置衬底的石墨卫星小转盘,呈环形均匀分布。行星大盘的旋转由磁流体密封轴直接驱动,形成公转;而卫星石墨转盘则由气浮旋转技术驱动,是为自传。衬底随行星大盘公转又随卫星小盘各自自转,使得在整个衬底表面上获得均匀的生长速度。该反应室内的加热系统,对于氮化物体系采用高频感应加热,采用红外辐射高温计测量托盘底部温度并依此控制加热,也从托盘上表面监测衬底温度。其托盘底部控温的光学探头易受到沉积覆盖,影响测量准确和稳定性,容易造成温度误差而使设备工艺漂移。

   近耦合喷淋反应室(C1ose Coup1ed showe血ead,CCs):图⒈9为德国爱思强(AIXTRON)公司(原英国剑桥的Thomas swan公司,后被AIXTRON公司收购)的立式近耦合喷淋反应室示意图。其特点是进气系统为双层结构的喷淋头:一层通Mo源,另一层通Ⅴ族源。在喷淋头最靠近托盘的地方有一层水道,通恒温水对喷淋头进行温度调节。通过喷淋头密集而又细小的喷孔,Mo源和Ⅴ族源分别被喷向反应腔内相距不远(约10~20mm[l")的托盘,在衬底上进行外延生长。该反应腔技术特点为:(1)距离小,一方面有利于抑制基座上方的涡流形成,但另一方面会使喷淋头表面受热辐射而产生高温沉积;(2)喷淋头喷孔细小密集(喷孔内径0.6mm,密度达到15.5个/cm2),使分别从两组相间的喷孔注入的Ⅲ族源和Ⅴ族源,在经过短距离到达衬底前也能充分混合,保障了反应气体浓度基本相同,并均匀分配到外延上方,从而得到均匀的外延层;(3)托盘采用三组电阻加热;基座中速旋转,旋转速率通常为50~⒛0rpm。由于喷口与热托盘之间的距离近,反应过程中容易在喷淋头表面形成沉积物,使得有杂质残留并使温场漂移,需要每长一炉后打开反应腔进行清理去除残留,降低了设备使用效率。


   行星卫星式气浮旋转水平反应室(Planetary Reactor):该技术为德国爱思强(AIXTRON)公司产品。在结构上,其Ⅲ族和V族反应 RA08N1317M源分别从上盖经中央水冷处理的三层气流喷嘴进入反应室,通过环状格栅和喷嘴靠近托盘中心的圆形挡板阻挡,使气流被迫转向沿放置衬底的大石墨托盘(行星盘)和石英/石墨天棚之间的3ω°环形空间,呈辐射状向外缘水平流动。这样的结构带来几个明显效果:天棚(cciling)和托盘基座靠得很近,抑制了对流旋涡从而获得层流;三层流喷口的上、下两层流为V族气流,中间层为Ⅲ族气流,且喷嘴有主动水冷,这样就有利于抑制预反应,并进

一步促进层流的形成与保持。行星大盘上有多个放置衬底的石墨卫星小转盘,呈环形均匀分布。行星大盘的旋转由磁流体密封轴直接驱动,形成公转;而卫星石墨转盘则由气浮旋转技术驱动,是为自传。衬底随行星大盘公转又随卫星小盘各自自转,使得在整个衬底表面上获得均匀的生长速度。该反应室内的加热系统,对于氮化物体系采用高频感应加热,采用红外辐射高温计测量托盘底部温度并依此控制加热,也从托盘上表面监测衬底温度。其托盘底部控温的光学探头易受到沉积覆盖,影响测量准确和稳定性,容易造成温度误差而使设备工艺漂移。

   近耦合喷淋反应室(C1ose Coup1ed showe血ead,CCs):图⒈9为德国爱思强(AIXTRON)公司(原英国剑桥的Thomas swan公司,后被AIXTRON公司收购)的立式近耦合喷淋反应室示意图。其特点是进气系统为双层结构的喷淋头:一层通Mo源,另一层通Ⅴ族源。在喷淋头最靠近托盘的地方有一层水道,通恒温水对喷淋头进行温度调节。通过喷淋头密集而又细小的喷孔,Mo源和Ⅴ族源分别被喷向反应腔内相距不远(约10~20mm[l")的托盘,在衬底上进行外延生长。该反应腔技术特点为:(1)距离小,一方面有利于抑制基座上方的涡流形成,但另一方面会使喷淋头表面受热辐射而产生高温沉积;(2)喷淋头喷孔细小密集(喷孔内径0.6mm,密度达到15.5个/cm2),使分别从两组相间的喷孔注入的Ⅲ族源和Ⅴ族源,在经过短距离到达衬底前也能充分混合,保障了反应气体浓度基本相同,并均匀分配到外延上方,从而得到均匀的外延层;(3)托盘采用三组电阻加热;基座中速旋转,旋转速率通常为50~⒛0rpm。由于喷口与热托盘之间的距离近,反应过程中容易在喷淋头表面形成沉积物,使得有杂质残留并使温场漂移,需要每长一炉后打开反应腔进行清理去除残留,降低了设备使用效率。


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