扫描电子强微镜像衬度主要是利用样品表面微区特征(如形貌,原子序数或化学成分,SC16C654BIB64晶体结构或晶体取向等)的差异,在电子束作用下产生不同强度的二次电子信号,从而导致成像荧光屏上不同的lx域出现不同的亮度,获得具有一定衬度的图像。表面形貌衬度是利用对样品表面形貌变化敏感的物理信号作为调制信号得到的一种像衬度。工次电子信号主要来自样品浅表层,它的强度与原子序数没有明确的关系,但对微区刻面相对于入射电子束的位向十分敏感。而且二次电子像分辨率高,非常适用于显示形貌衬度。表面尖棱、小粒子、坑穴边缘等结构囚二次电子的产额高.在扫描像上这些位置亮度高,CD SEM主要利用形貌衬度,利用所观察目标的表面形状的起伏产生衬度,冉配以自动测量的软件,实现快速、高分辨率的CD测量。在集成电路生产过程中,沟槽的宽度、通孔的直径、栅极的宽度、互连线的宽度等都可以用CD sEM进行高精度的测量。