FIB系统主要由离子源、离子光学SCA100T-D01系统、二次粒子探测器、真空系统和辅助气体系统组成。商用机型有单束(single beam)和双束(dual beam,离子束+电子束)两类。日前商用系统的离子源为液相金属离子源(I'iquid MetaH冫0n Source,I'MIS),金属材质为镓(Gallium,Ga),因为镓元素具有低熔点、低蒸气压及良好的抗氧化力。离子光学系统主要包括聚焦成像的静电透镜系统、束对中器、消像散器、质量分析器和束偏转器等。辅助气体系统指在FIB中通人不同种类的辅助气体,可以实现以下两种主要的用途:①辅助气体刻蚀:通人某些反应气体,如C12、I2、Br2等,就能改变靶材表面的束缚能,或者直接与靶材表面起化学反应,从而大大提高离子束的溅射产额。②诱导沉积:根据要求沉积的材料不同,选择不同的诱导气体,如W(CO)6、WF6、Al(CH3)3等。诱导气体以单分子层的形式吸附在固体材料表面9人射离子束的轰击致使吸附气体分子分解,将金属材料留在固体表面。商用FIB系统常用的气体辅助气体沉积导体如钨或白金,在IC失效分析中主要用于金属线连接、测试键生长。