图13.8画出了一个桥连的热点, R10937P40这个热点位于一个大的金属结构附近,对于这个热点OPC很难起到效果。MEEF分析结果表明(见图13,9),相邻线条边缘在OPC之后MEEF,和OPC之前相比都变差了。

   图13,8 取自Meta⒈1层的测试图形。相邻两条线的间距仅为90nm,这会在后OPC验证中导致桥连类型的缺陷目标层上线边沿上最大的MEEF值是3.7。理想的结果是经过OPC之后该数值减少,

但事实上,经过OPC之后它增加到了4,7,由此导致了OPC不相容边沿图形。这来源于相邻线条之间紧密的距离(90nm)。基于当前热点的MEEF数值在OPC前已经很高了,通常的补救办法是改变设计。

   对于这个热点的设计修正是把相邻线条的距离各移动10nm,使距离变为110nm。同 时去掉目标图形⒈的凹凸不平之处,从而使得OP(r更容易。在这个例子中,由于附近有较大的空闸,所以这样的移动是行的。

   图139 线条热点边沿的MEEF测章。左边的版图给出OPC前的测量值,向f右边的版罔给出OPt∶后的测董仙版图修改以后.()PC之后边缘的最大的MEEF值由原来的4.7变为3.2,而且MEEF比率(OPC之后∷OIDC之前)也由原来的4,7Ⅱ3.7=1,3变为3,2∷3.5=0.9。结果显示在图13.10中。