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光学邻近效应修正

发布时间:2017/11/1 19:32:12 访问次数:1662

   光学邻近效应修正指的是在掩膜版L对于由衍射导致的曝光线宽偏差进行修正,这里只做简单介绍。光学邻近效应修正分为基于规则的修正和基于模型的修正。O27.0-VX3MH-LF基于规则的修正(Rulc Based Optical Proximity Correction,RBOPC)是指建立一套与图形周边情况有关的规则,使得在规则满是的情况下,按照规则定义的要求对图形进行修正。例如,可以有这样的规则:当100nm的线条的某一边界距离下一个图形的边界的距离大于等于500nm,此边界往外移动10nm,如图7,103所示。

   规则的制定依赖于对一组定标图形的精确测定。一维的定标图形大多是一张线宽与槽宽的矩阵。对于任意的线宽与槽宽组合,基于对测试掩膜版上的定标图形在硅片上光刻胶投影图形的测定,并且根据实际测量的尺寸与理想的尺寸之间的差值来决定修正量的多少。对于二维的图形,也可以建立一些定标图形,并且通过实验的测定来制定出修正量,如表7.6 所示。

        

   光学邻近效应修正指的是在掩膜版L对于由衍射导致的曝光线宽偏差进行修正,这里只做简单介绍。光学邻近效应修正分为基于规则的修正和基于模型的修正。O27.0-VX3MH-LF基于规则的修正(Rulc Based Optical Proximity Correction,RBOPC)是指建立一套与图形周边情况有关的规则,使得在规则满是的情况下,按照规则定义的要求对图形进行修正。例如,可以有这样的规则:当100nm的线条的某一边界距离下一个图形的边界的距离大于等于500nm,此边界往外移动10nm,如图7,103所示。

   规则的制定依赖于对一组定标图形的精确测定。一维的定标图形大多是一张线宽与槽宽的矩阵。对于任意的线宽与槽宽组合,基于对测试掩膜版上的定标图形在硅片上光刻胶投影图形的测定,并且根据实际测量的尺寸与理想的尺寸之间的差值来决定修正量的多少。对于二维的图形,也可以建立一些定标图形,并且通过实验的测定来制定出修正量,如表7.6 所示。

        

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