一般通过减少水从浸没水罩(in1n1crsion hood)之中的流失来改进浸没式光刻造成的缺陷。如图7.49(a)、图7,49(b)所示。例如加强抽取的效率、 V480LA40A使用气帘(air knife)的保护(如阿斯麦公司的1900系列光刻机),如图7.49(c)所示;还有提高光刻胶的接触角(contactangle),如图7.50(a)、图7.50(b)所示。提高接触角需要将提高所有接触水的表面的疏水 性能,如光刻胶表面(对于不需要顶部涂层的光刻胶)、顶部涂层表面。而且,根据扫描速度不同,这种要求也会变得不同。通常,扫描速度越快,拖曳接触角(Rece山ng Contact Angle,RCA)就会变小,造成水的流失。一般,对于6OOmm/s的扫描速度,不产生超标缺陷的拖曳接触角的要求在65~70°之间。如遇到太多缺陷,如大于几十颗/硅片,在没有找到问题原因时,可以通过降低扫描速度来解决。不过,这样要牺牲光刻机的单位时间产能。最好的办法是增加拖曳接触角。