光刻胶形貌
发布时间:2017/10/26 21:29:10 访问次数:1933
光刻胶形貌的异常情况包括侧墙倾斜角,驻波,厚度损失,底部站脚,底部内切,T型顶,顶部变圆, SC103116MPVE线宽粗糙度,高宽比/图形倾倒,底部残留等。下面我们对它们逐一进行讨论,如图7.38所示。
侧墙倾斜角(sidewall angle):一股是因为进人到光刻胶底部的光比在顶部的光弱(由于光刻胶对光的吸收)。解决方法一般通过减小光刻胶对光的吸收同时提高光刻胶对光的灵敏度。这可以通过增加光敏感成分的添加以及增加光酸在去保护反应中的催化作用(扩散-催化反应)。侧墙角度会对刻蚀产生一定影响,严重时会将侧墙角度转移到被刻蚀的衬底材料中。
光刻胶形貌的异常情况包括侧墙倾斜角,驻波,厚度损失,底部站脚,底部内切,T型顶,顶部变圆, SC103116MPVE线宽粗糙度,高宽比/图形倾倒,底部残留等。下面我们对它们逐一进行讨论,如图7.38所示。
侧墙倾斜角(sidewall angle):一股是因为进人到光刻胶底部的光比在顶部的光弱(由于光刻胶对光的吸收)。解决方法一般通过减小光刻胶对光的吸收同时提高光刻胶对光的灵敏度。这可以通过增加光敏感成分的添加以及增加光酸在去保护反应中的催化作用(扩散-催化反应)。侧墙角度会对刻蚀产生一定影响,严重时会将侧墙角度转移到被刻蚀的衬底材料中。
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